CN-309963602-S - 等离子体增强化学气相沉积设备
CN309963602SCN 309963602 SCN309963602 SCN 309963602SCN-309963602-S
Abstract
1.本外观设计产品的名称：等离子体增强化学气相沉积设备。 2.本外观设计产品的用途：用于在半导体基材表面化学气相沉积出薄膜。 3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。 4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
Inventors
- 许小清
- 丁波
- 陈瀚
- 杭海燕
Assignees
- 上海微世半导体有限公司
Dates
- Publication Date
- 20260505
- Application Date
- 20250917