CN-309963627-S - 原子层沉积设备
CN309963627SCN 309963627 SCN309963627 SCN 309963627SCN-309963627-S
Abstract
1.本外观设计产品的名称:原子层沉积设备。 2.本外观设计产品的用途:用于在基底表面制备原子级精度的薄膜。 3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。 4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。 5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位,省略仰视图。
Inventors
- 魏澜
- 刘世辉
- 赵茂生
Assignees
- 北京韫茂科技有限公司
Dates
- Publication Date
- 20260505
- Application Date
- 20251016