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DE-102024131948-A1 - Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts, Computerprogrammprodukt sowie System mit einem Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts zum Abbilden, Bearbeiten und/oder Analysieren eines Objekts. Beispielsweise ist das Teilchenstrahlgerät als Elektronenstrahlgerät und/oder als lonenstrahlgerät ausgebildet. Ferner betrifft die Erfindung ein Computerprogrammprodukt und ein System mit einem Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen von ersten Strukturdaten und von zweiten Strukturdaten; ein Bestimmen einer Zielanordnung für eine erste Einrichtung; ein Bereitstellen mindestens eines Bewegungspfads; ein Modellieren des Bewegungspfads der ersten Einrichtung innerhalb des Teilchenstrahlgeräts; ein Überprüfen, ob die Modellierung des Bewegungspfads ergibt, dass mindestens eine erste Oberflächenanordnung der ersten Einrichtung und mindestens eine zweite Oberflächenanordnung der mindestens einen zweiten Einrichtung bei der Durchführung eines Bewegungsvorgangs (i) mindestens einen gemeinsamen Punkt aufweisen oder (ii) einen Geringstabstand, jedoch keinen gemeinsamen Punkt aufweisen, wobei der Geringstabstand kleiner als ein vorgebbarer Mindestabstand ist; sowie abhängig von dem Ergebnis des Überprüfens ein Darstellen einer Mitteilung, ein Verwerfen eines Bewegungsvorgangs, ein Ändern einer Geschwindigkeit des Bewegungsvorgangs, ein Abbrechen des Bewegungsvorgangs, ein Umstellen des Bewegungsvorgangs auf einen weiteren Bewegungsvorgang und/oder ein Durchführen des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung unter Verwendung einer Bewegungseinrichtung zur Bewegung der ersten Einrichtung.

Inventors

  • Holger Ebhart

Assignees

  • CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH

Dates

Publication Date
20260507
Application Date
20241101

Claims (10)

  1. Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts (100, 200, 400) zum Abbilden, Bearbeiten und/oder Analysieren eines Objekts (125, 425), wobei das Verfahren folgende Verfahrensschritte umfasst: - Bereitstellen von ersten Strukturdaten und von zweiten Strukturdaten, wobei die ersten Strukturdaten Informationen über mindestens eine erste Oberflächenanordnung einer ersten Einrichtung (114, 125, 425) innerhalb des Teilchenstrahlgeräts (100, 200, 400) umfassen, wobei die zweiten Strukturdaten Informationen über mindestens eine zweite Oberflächenanordnung mindestens einer zweiten Einrichtung (100, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 119, 120, 121, 122, 125, 130, 140, 141, 200, 201, 300, 303, 304, 306, 307, 308, 400, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 419, 420, 421, 422, 423, 424, 425, 426, 428, 429, 432, 500) innerhalb des Teilchenstrahlgeräts (100, 200, 400) umfassen, wobei die ersten Strukturdaten und/oder die zweiten Strukturdaten Informationen über mindestens eine Transformation der ersten Einrichtung (114, 125, 425) und/oder der mindestens einen zweiten Einrichtung (100, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 119, 120, 121, 122, 125, 130, 140, 141, 200, 201, 300, 303, 304, 306, 307, 308, 400, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 419, 420, 421, 422, 423, 424, 425, 426, 428, 429, 432, 500) umfassen und wobei das Bereitstellen der ersten Strukturdaten und der zweiten Strukturdaten mindestens einen der folgenden Verfahrensschritte umfasst: (a) ein Abrufen aus einer Speichereinheit (126) für das Teilchenstrahlgerät (100, 200, 400); (b) eine Eingabe in eine Steuereinheit (123) des Teilchenstrahlgeräts (100, 200, 400) durch einen Benutzer des Teilchenstrahlgeräts (100, 200, 400) unter Verwendung einer Eingabeeinheit; (c) eine Aufnahme der ersten Strukturdaten und/oder der zweiten Strukturdaten unter Verwendung mindestens eines Detektors (116, 117, 119, 121, 140, 419, 428, 500) und/oder mindestens eines Sensors (141) des Teilchenstrahlgeräts (100, 200, 400); - Bestimmen einer Zielanordnung für die erste Einrichtung (114, 125, 425) unter Verwendung der Steuereinheit (123) des Teilchenstrahlgeräts (100, 200, 400); - Bereitstellen, unter Verwendung einer Prozessoreinheit (127), mindestens eines Bewegungspfads der ersten Einrichtung (114, 125, 425) zum Erreichen der Zielanordnung für die erste Einrichtung (114, 125, 425); - Modellieren des Bewegungspfads der ersten Einrichtung (114, 125, 425) innerhalb des Teilchenstrahlgeräts (100, 200, 400) unter Verwendung einer Prozessoreinheit (127), wobei bei dem Modellieren die ersten Strukturdaten, die zweiten Strukturdaten und die Zielanordnung für die erste Einrichtung (114, 125, 425) verwendet werden; - Überprüfen, unter Verwendung der Prozessoreinheit (127), ob die mindestens eine erste Oberflächenanordnung der ersten Einrichtung (114, 125, 425) und die mindestens eine zweite Oberflächenanordnung der mindestens einen zweiten Einrichtung (100, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 119, 120, 121, 122, 125, 130, 140, 141, 200, 201, 300, 303, 304, 306, 307, 308, 400, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 419, 420, 421, 422, 423, 424, 425, 426, 428, 429, 432, 500) bei einer Durchführung eines Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des modellierten Bewegungspfads (i) mindestens einen gemeinsamen Punkt aufweisen oder (ii) einen Geringstabstand aufweisen, wobei der Geringstabstand kleiner als ein vorgebbarer Mindestabstand ist und wobei die mindestens eine erste Oberflächenanordnung der ersten Einrichtung (114, 125, 425) und die mindestens eine zweite Oberflächenanordnung der mindestens einen zweiten Einrichtung (100, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 119, 120, 121, 122, 125, 130, 140, 141, 200, 201, 300, 303, 304, 306, 307, 308, 400, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 419, 420, 421, 422, 423, 424, 425, 426, 428, 429, 432, 500) jedoch keinen gemeinsamen Punkt aufweisen; sowie - Ausführen eines der folgenden Verfahrensschritte: (i) wenn die mindestens eine erste Oberflächenanordnung der ersten Einrichtung (114, 125, 425) und die mindestens eine zweite Oberflächenanordnung der mindestens einen zweiten Einrichtung (100, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 119, 120, 121, 122, 125, 130, 140, 141, 200, 201, 300, 303, 304, 306, 307, 308, 400, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 419, 420, 421, 422, 423, 424, 425, 426, 428, 429, 432, 500) bei der Durchführung des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des modellierten Bewegungspfads den mindestens einen gemeinsamen Punkt aufweisen, wird mindestens einer der folgenden Verfahrensschritte durchgeführt: (a) Darstellen einer Mitteilung auf einer Anzeigeeinheit (124) des Teilchenstrahlgeräts (100, 200, 400); (b) Verwerfen oder Abbrechen des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des bereitgestellten Bewegungspfads; (c) Verwerfen oder Umstellen des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des bereitgestellten Bewegungspfads auf einen weiteren Bewegungsvorgang; (d) Durchführen des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des bereitgestellten Bewegungspfads unter Verwendung einer Bewegungseinrichtung (122, 424) zur Bewegung der ersten Einrichtung (114, 125, 425); (e) Ändern einer Geschwindigkeit des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des bereitgestellten Bewegungspfads unter Verwendung der Bewegungseinrichtung (122, 424) zur Bewegung der ersten Einrichtung (114, 125, 425); (ii) wenn eine erste Stelle der mindestens einen ersten Oberflächenanordnung der ersten Einrichtung (114, 125, 425) und eine zweite Stelle der mindestens einen zweiten Oberflächenanordnung der mindestens einen zweiten Einrichtung (100, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 119, 120, 121, 122, 125, 130, 140, 141, 200, 201, 300, 303, 304, 306, 307, 308, 400, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 419, 420, 421, 422, 423, 424, 425, 426, 428, 429, 432, 500) bei der Durchführung des Bewegungsvorgangs entlang des modellierten Bewegungspfads den Geringstabstand aufweisen, wobei der Geringstabstand kleiner als der vorgebbare Mindestabstand ist und die mindestens eine erste Oberflächenanordnung der ersten Einrichtung (114, 125, 425) und die mindestens eine zweite Oberflächenanordnung der mindestens einen zweiten Einrichtung (100, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 119, 120, 121, 122, 125, 130, 140, 141, 200, 201, 300, 303, 304, 306, 307, 308, 400, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 419, 420, 421, 422, 423, 424, 425, 426, 428, 429, 432, 500) bei der Durchführung des Bewegungsvorgangs entlang des modellierten Bewegungspfads jedoch nicht den gemeinsamen Punkt aufweisen, wird mindestens einer der folgenden Verfahrensschritte durchgeführt: (a) Darstellen einer Mitteilung auf einer Anzeigeeinheit (124) des Teilchenstrahlgeräts (100, 200, 400); (b) Verwerfen des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des bereitgestellten Bewegungspfads oder Ändern einer Geschwindigkeit des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des bereitgestellten Bewegungspfads; (c) Verwerfen des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des bereitgestellten Bewegungspfads oder Abbrechen des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des bereitgestellten Bewegungspfads; (d) Verwerfen des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des bereitgestellten Bewegungspfads oder Umstellen des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des bereitgestellten Bewegungspfads auf einen weiteren Bewegungsvorgang; (e) Durchführen des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des bereitgestellten Bewegungspfads unter Verwendung einer Bewegungseinrichtung (122, 424) zur Bewegung der ersten Einrichtung (114, 125, 425); oder (iii) wenn eine erste Stelle der mindestens einen ersten Oberflächenanordnung der ersten Einrichtung (114, 125, 425) und eine zweite Stelle der mindestens einen zweiten Oberflächenanordnung der mindestens einen zweiten Einrichtung (100, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 119, 120, 121, 122, 125, 130, 140, 141, 200, 201, 300, 303, 304, 306, 307, 308, 400, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 419, 420, 421, 422, 423, 424, 425, 426, 428, 429, 432, 500) bei der Durchführung des Bewegungsvorgangs entlang des modellierten Bewegungspfads den Geringstabstand aufweisen, wobei der Geringstabstand größer oder identisch zu dem vorgebbaren Mindestabstand ist, Durchführen des Bewegungsvorgangs der ersten Einrichtung (114, 125, 425) entlang des bereitgestellten Bewegungspfads unter Verwendung einer Bewegungseinrichtung (122, 424) zur Bewegung der ersten Einrichtung (114, 125, 425).
  2. Verfahren nach Anspruch 1 , wobei ein Ergebnis des Überprüfens als Kollisionsdaten in der Speichereinheit (126) gespeichert wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2 , wobei als die erste Einrichtung (114, 125, 425) und/oder als die mindestens eine zweite Einrichtung (100, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 119, 120, 121, 122, 125, 130, 140, 141, 200, 201, 300, 303, 304, 306, 307, 308, 400, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 419, 420, 421, 422, 423, 424, 425, 426, 428, 429, 432, 500) mindestens eine der folgenden Einheiten verwendet wird: Das Objekt (125, 425), ein Objekttisch (122, 424), ein Objekthalter (114), ein Mikromanipulator, eine Probenkammer (120, 201, 426), eine Schleuse, eine Lichtquelle, eine Strahlsäule (104, 420), eine Erfassungseinrichtung (116, 117, 119, 121, 140, 141, 419, 428, 500), ein Gasinjektionssystem, eine Vorrichtung zur Ladungskompensation, eine Kamera, ein Schleusenstab, ein Greifer, ein Scansystem (105, 106, 107, 115, 130, 303, 304, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 421, 422, 423, 429, 432), eine Elektrode (112, 113, 307, 308), ein Kabel, ein Schlauch, ein Rasterkraftmikroskop, ein Mikrotom, ein Plasmareiniger, ein Faraday-Cup, eine Blende (108, 109, 306), eine Objektivkappe, mindestens ein Teil der Strahlsäule (104, 420), ein lonenstrahlgerät (300) und das Teilchenstrahlgerät (100, 200, 400).
  4. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei das Bereitstellen und/oder das Modellieren des Bewegungspfads der ersten Einrichtung innerhalb des Teilchenstrahlgeräts (100, 200, 400) unter Berücksichtigung eines vorgebbaren Minimalabstands derart erfolgt, dass ein Abstand zwischen der ersten Einrichtung (114, 125, 425) und der mindestens einen zweiten Einrichtung (100, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 119, 120, 121, 122, 125, 130, 140, 141, 200, 201, 300, 303, 304, 306, 307, 308, 400, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 419, 420, 421, 422, 423, 424, 425, 426, 428, 429, 432, 500) stets mindestens dem vorgebbaren Minimalabstand entspricht.
  5. Computerprogrammprodukt mit einem Programmcode, der in eine Prozessoreinheit (127) eines Teilchenstrahlgeräts (100, 200, 400) ladbar ist und bei Ausführung das Teilchenstrahlgerät (100, 200, 400) derart steuert, dass ein Verfahren nach mindestens einem der vorangehenden Ansprüche durchgeführt wird.
  6. System mit einer Speichereinheit (126) zum Hinterlegen von Strukturdaten und mit einem Teilchenstrahlgerät (100, 200, 400) zur Abbildung, Bearbeitung und/oder Analyse eines Objekts (125, 425), wobei das Teilchenstrahlgerät (100, 200, 400) umfasst: - mindestens einen Strahlerzeuger (101, 301, 402) zur Erzeugung mindestens eines Teilchenstrahls mit geladenen Teilchen; - mindestens eine Führungseinrichtung (104, 105, 106, 107, 108, 109, 115, 130, 303, 304, 306, 307, 308, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 420, 421, 422, 423, 429, 432) zur Führung, Formung und/oder Fokussierung des Teilchenstrahls mit geladenen Teilchen auf das Objekt (125, 425); - eine erste Einrichtung (114, 125, 425) und mindestens eine zweite Einrichtung (100, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 119, 120, 121, 122, 125, 130, 140, 141, 200, 201, 300, 303, 304, 306, 307, 308, 400, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 419, 420, 421, 422, 423, 424, 425, 426, 428, 429, 432, 500); - mindestens eine Bewegungseinrichtung (122, 424) zur Bewegung der ersten Einrichtung (114, 125, 425); - mindestens eine Steuereinheit (123) zur Eingabe der Strukturdaten; und - mindestens eine Prozessoreinheit (127), in die ein Computerprogrammprodukt nach Anspruch 5 geladen ist.
  7. System nach Anspruch 6 , wobei das Teilchenstrahlgerät (100, 200, 400) mindestens eine Anzeigeeinheit (124) zur Ausgabe von Mitteilungen, mindestens einen Detektor (140) zur Aufnahme der Strukturdaten und/oder mindestens einen Sensor (141) zur Aufnahme der Strukturdaten aufweist.
  8. System nach Anspruch 6 oder 7 , wobei die erste Einrichtung (114, 125, 425) und/oder die mindestens eine zweite Einrichtung (100, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 119, 120, 121, 122, 125, 130, 140, 141, 200, 201, 300, 303, 304, 306, 307, 308, 400, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 419, 420, 421, 422, 423, 424, 425, 426, 428, 429, 432, 500) als mindestens eine der folgenden Einheiten ausgebildet sind/ist: Als das mindestens eine Objekt (125, 425), als ein Objekttisch (122, 424), als ein Objekthalter (114), als ein Mikromanipulator, als eine Probenkammer (120, 201, 426), als eine Schleuse, als eine Lichtquelle, als eine Strahlsäule (104, 420), als eine Erfassungseinrichtung (116, 117, 119, 121, 140, 141, 419, 428, 500), als ein Gasinjektionssystem, als eine Vorrichtung zur Ladungskompensation, als eine Kamera, als ein Schleusenstab, als ein Greifer, als ein Scansystem (105, 106, 107, 115, 130, 303, 304, 405, 406, 407, 408, 409, 409A, 409B, 410, 411A, 411B, 411C, 411D, 411E, 411F, 411G, 413A, 413B, 413C, 414, 415, 416, 416A, 416B, 417, 418, 418A, 418B, 421, 422, 423, 429, 432), als eine Elektrode (112, 113, 307, 308), als ein Kabel, als ein Schlauch, als ein Rasterkraftmikroskop, als ein Mikrotom, als ein Plasmareiniger, als ein Faraday-Cup, als eine Blende (108, 109, 306), als eine Objektivkappe, als mindestens ein Teil der Strahlsäule (104, 420) und als das Teilchenstrahlgerät (100, 200, 400).
  9. System nach einem der Ansprüche 6 bis 8 , wobei der Strahlerzeuger (101) als ein erster Strahlerzeuger ausgebildet ist, wobei der Teilchenstrahl als ein erster Teilchenstrahl mit ersten geladenen Teilchen ausgebildet ist, wobei die Führungseinrichtung (104, 105, 106, 107, 108, 109, 115, 130) als eine erste Führungseinrichtung zur Führung, Formung und/oder Fokussierung des ersten Teilchenstrahls auf die erste Einrichtung (114, 125) ausgebildet ist und wobei das Teilchenstrahlgerät (200) ferner aufweist: - mindestens einen zweiten Strahlerzeuger (301) zur Erzeugung mindestens eines zweiten Teilchenstrahls mit zweiten geladenen Teilchen; sowie - mindestens eine zweite Führungseinrichtung (303, 304, 306, 307, 308) zur Führung, Formung und/oder Fokussierung des mindestens einen zweiten Teilchenstrahls auf die erste Einrichtung (114, 125).
  10. System nach einem der Ansprüche 6 bis 9 , wobei das Teilchenstrahlgerät (100, 200, 400) ein Elektronenstrahlgerät und/oder ein Ionenstrahlgerät ist.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts zum Abbilden, Bearbeiten und/oder Analysieren eines Objekts in einem Teilchenstrahlgerät. Ferner betrifft die Erfindung ein Computerprogrammprodukt und ein System mit einem Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens. Beispielsweise ist das Teilchenstrahlgerät als ein Elektronenstrahlgerät und/oder als ein lonenstrahlgerät ausgebildet. Elektronenstrahlgeräte, insbesondere ein Rasterelektronenmikroskop (nachfolgend auch SEM genannt) und/oder ein Transmissionselektronenmikroskop (nachfolgend auch TEM genannt), werden zur Untersuchung von Objekten (nachfolgend auch Proben genannt) verwendet, um Kenntnisse hinsichtlich der Eigenschaften und des Verhaltens unter bestimmten Bedingungen zu erhalten. Bei einem SEM wird ein Elektronenstrahl (nachfolgend auch Primärelektronenstrahl genannt) mittels eines Strahlerzeugers erzeugt und durch ein Strahlführungssystem auf ein zu untersuchendes Objekt fokussiert. Mittels einer Führungseinrichtung in Form einer Rastereinrichtung wird der Primärelektronenstrahl über eine Oberfläche des zu untersuchenden Objekts geführt. Die Elektronen des Primärelektronenstrahls treten dabei in Wechselwirkung mit dem zu untersuchenden Objekt. Als Folge der Wechselwirkung werden insbesondere Elektronen vom Objekt emittiert (sogenannte Sekundärelektronen) und Elektronen des Primärelektronenstrahls zurückgestreut (sogenannte Rückstreuelektronen). Die Sekundärelektronen und die Rückstreuelektronen werden detektiert und zur Bilderzeugung verwendet. Man erhält somit eine Abbildung des zu untersuchenden Objekts. Ferner wird bei der Wechselwirkung Wechselwirkungsstrahlung erzeugt, beispielsweise Röntgenstrahlung oder Kathodolumineszenzlicht, die zur Analyse des Objekts mittels eines Detektors detektiert und im Anschluss ausgewertet wird. Bei einem TEM wird ebenfalls ein Primärelektronenstrahl mittels eines Strahlerzeugers erzeugt und mittels eines Strahlführungssystems auf ein zu untersuchendes Objekt geführt. Der Primärelektronenstrahl durchstrahlt das zu untersuchende Objekt. Beim Durchtritt des Primärelektronenstrahls durch das zu untersuchende Objekt treten die Elektronen des Primärelektronenstrahls mit dem Material des zu untersuchenden Objekts in Wechselwirkung. Die durch das zu untersuchende Objekt hindurchtretenden Elektronen werden durch ein System bestehend aus einem Objektiv und einem Projektiv auf einem Leuchtschirm oder auf einem Detektor (beispielsweise einer Kamera) abgebildet. Die Abbildung kann dabei auch im Scan-Modus eines TEM erfolgen. Ein derartiges TEM wird in der Regel als STEM bezeichnet. Zusätzlich kann es vorgesehen sein, an dem zu untersuchenden Objekt zurückgestreute Elektronen und/oder von dem zu untersuchenden Objekt emittierte Sekundärelektronen mittels eines weiteren Detektors zu detektieren, um das zu untersuchende Objekt abzubilden. Es ist bekannt, die Funktion eines STEM und eines SEM in einem einzelnen Teilchenstrahlgerät zu kombinieren. Mit diesem Teilchenstrahlgerät sind somit Untersuchungen von Objekten mit einer SEM-Funktion und/oder mit einer STEM-Funktion möglich. Darüber hinaus ist ein Teilchenstrahlgerät mit einer Ionenstrahlsäule bekannt. Mittels eines in der Ionenstrahlsäule angeordneten Ionenstrahlerzeugers werden Ionen erzeugt, die zur Bearbeitung eines Objekts verwendet werden. Beispielsweise wird bei der Bearbeitung Material des Objekts abgetragen oder es wird Material auf das Objekt aufgebracht, beispielsweise unter Zuführung eines Gases. Zusätzlich oder alternativ hierzu werden die Ionen zur Bildgebung verwendet. Ferner ist es aus dem Stand der Technik bekannt, Kombinationsgeräte zur Untersuchung von Objekten zu verwenden, bei denen sowohl Elektronen als auch Ionen auf ein zu untersuchendes Objekt geführt werden können. Beispielsweise ist es bekannt, ein SEM zusätzlich mit einer Ionenstrahlsäule auszustatten. Mittels eines in der Ionenstrahlsäule angeordneten Ionenstrahlerzeugers werden Ionen erzeugt, die zur Präparation eines Objekts (beispielsweise Abtragen von Material des Objekts oder Aufbringen von Material auf das Objekt) oder auch zur Bildgebung verwendet werden. Hierzu werden die Ionen mit einer Führungseinrichtung in Form einer Rastereinrichtung über das Objekt gescannt. Das SEM dient hierbei insbesondere zur Beobachtung der Präparation, aber auch zur weiteren Untersuchung des präparierten oder unpräparierten Objekts. Wie oben ausgeführt, können als Folge der Wechselwirkung des Primärelektronenstrahls mit dem Objekt emittierte Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen detektiert und zur Bilderzeugung verwendet werden. Man erhält somit eine Abbildung des Objekts. Diese Abbildung bildet üblicherweise jedoch nur einen räumlich stark eingeschränkten Bereich des Objekts ab. Beispielsweise ist der Bereich kleiner als 1 mm x 1 mm, während das Objekt üblicherweise eine Größe von mindestens 1 cm x 1 cm aufweist. Beispielsweise kann auch bei der obe