DE-102025120470-A1 - BAUGRUPPE UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE

Abstract

Eine Baugruppe (100) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend eine Komponente (102), und einen an der Komponente (102) angebrachten Schwingungstilger (110) zum Dämpfen von Eigenmoden der Komponente (102), wobei der Schwingungstilger (110) ein Dämpfungsglied (128) aufweist, das aus einer Formgedächtnislegierung gefertigt ist.

Inventors

• Eduard SCHWEIGERT

Assignees

• CARL ZEISS SMT GMBH

Dates

Publication Date

20260507

Application Date

20250526

Claims (10)

1. Baugruppe (100) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend eine Komponente (102), und einen an der Komponente (102) angebrachten Schwingungstilger (110) zum Dämpfen von Eigenmoden der Komponente (102), wobei der Schwingungstilger (110) ein Dämpfungsglied (128) aufweist, das aus einer Formgedächtnislegierung gefertigt ist.
2. Baugruppe nach Anspruch 1 , wobei der Schwingungstilger (110) eine Tilgermasse (122) aufweist, die über ein Federelement (126) an das Dämpfungsglied (128) angebunden ist.
3. Baugruppe nach Anspruch 2 , wobei die Tilgermasse (122) ringförmig ist, und wobei das Federelement (126) scheibenförmig ist.
4. Baugruppe (200) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend eine erste Komponente (202), eine zweite Komponente (204), und einen Schwingungstilger (214) zum Dämpfen von Eigenmoden der ersten Komponente (202) und/oder der zweiten Komponente (204), wobei die erste Komponente (202) mit Hilfe des Schwingungstilgers (214) mit der zweiten Komponente (204) verbunden ist, und wobei der Schwingungstilger (214) ein Dämpfungsglied (236) aufweist, das aus einer Formgedächtnislegierung gefertigt ist.
5. Baugruppe nach Anspruch 4 , wobei der Schwingungstilger (214) einen Grundkörper (218), der mit der ersten Komponente (202) verbunden ist, und ein Kopplungselement (228), das mit der zweiten Komponente (204) verbunden ist, aufweist, und wobei der Grundkörper (218) mit Hilfe des Dämpfungsglieds (236) mit dem Kopplungselement (228) verbunden ist.
6. Baugruppe (300) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend eine erste Komponente (302), eine zweite Komponente (304), und einen Schwingungstilger (306) zum Dämpfen von Eigenmoden der ersten Komponente (302) und/oder der zweiten Komponente (304), wobei der Schwingungstilger (306) eine Tilgermasse (308) und mehrere Dämpfungsglieder (310, 312, 316, 318), die aus einer Formgedächtnislegierung gefertigt sind, aufweist, und wobei die Tilgermasse (308) mit Hilfe der Dämpfungsglieder (310, 312, 316, 318) an der ersten Komponente (302) und an der zweiten Komponente (304) aufgehängt ist.
7. Baugruppe (400) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend eine erste Komponente (402), eine zweite Komponente (404), und ein als Schwingungstilger zum Dämpfen von Eigenmoden der ersten Komponente (402) und/oder der zweiten Komponente (404) fungierendes Dämpfungsglied (410), das aus einer Formgedächtnislegierung gefertigt ist, wobei das Dämpfungsglied (410) an einem Anschraubpunkt (406) zwischen der ersten Komponente (402) und der zweiten Komponente (404) angebracht ist.
8. Baugruppe (500) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend eine erste Komponente (502), durch die ein Fluid (F) hindurchleitbar ist, eine zweite Komponente (504), welche die erste Komponente (502) teilweise umschließt, und einen Schwingungstilger (526) zum Dämpfen von Eigenmoden der ersten Komponente (502), wobei der Schwingungstilger (526) ein Dämpfungsglied (514) aufweist, das aus einer Formgedächtnislegierung gefertigt ist, wobei der Schwingungstilger (526) eine von der ersten Komponente (502) gebildete Membran (512) aufweist, und wobei sich das Dämpfungsglied (514) an der Membran (512) und an der zweiten Komponente (504) abstützt.
9. Baugruppe nach einem der Ansprüche 1 - 8 , wobei das Dämpfungsglied (128, 236, 310, 312, 316, 318, 410, 514) mit einer wasserstoffundurchlässigen Beschichtung, insbesondere einer Vernickelung, eingekapselt ist.
10. Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einer Baugruppe (100, 200, 300, 400, 500) nach einem der Ansprüche 1 - 9 .

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Baugruppe für eine Projektionsbelichtungsanlage und eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Baugruppe. Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt, Linsen, eingesetzt werden. Eigenmoden von Komponenten, wie beispielsweise Spiegeln, eines derartigen Projektionssystems einer wie zuvor erwähnten EUV-Lithographieanlage können mit Hilfe sogenannter Schwingungstilger oder Tuned Mass Damper gedämpft werden. Hierbei können als Dämpfungsglieder elastomere Werkstoffe, wie beispielsweise per- und polyfluorierte Alkylverbindungen (Engl.: Per- and Polyfluoroalkyl Substances, PFAS), die zu den sogenannten Ewigkeitschemikalien zählen, eingesetzt werden. Es ist jedoch abzusehen, dass diese Werkstoff aus arbeitsrechtlichen und ökologischen Gründen zukünftig nicht mehr eingesetzt werden können. Zudem können diese Werkstoffe ausgasen, was aus Kontaminationsgründen in einem Projektionssystem unerwünscht ist. Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, eine verbesserte Baugruppe für eine Projektionsbelichtungsanlage bereitzustellen. Demgemäß wird eine Baugruppe für eine Projektionsbelichtungsanlage vorgeschlagen. Die Baugruppe umfasst eine Komponente und einen an der Komponente angebrachten Schwingungstilger zum Dämpfen von Eigenmoden der Komponente, wobei der Schwingungstilger ein Dämpfungsglied aufweist, das aus einer Formgedächtnislegierung gefertigt ist. Dadurch, dass das Dämpfungsglied nicht aus einem elastomeren Werkstoff, sondern aus einer Formgedächtnislegierung gefertigt ist, kann ein Ausgasen des Dämpfungsglieds, wie dies bei elastomeren Werkstoffen vorkommen kann, verhindert werden. Ferner sind Dämpfungsglieder, die aus Formgedächtnislegierungen gefertigt sind, im Vergleich zu Dämpfungsgliedern, die aus elastomeren Werkstoffen gefertigt sind, besser reinigbar, besser herstellbar und leichter mit weiteren Bauteilen verbindbar. Die Baugruppe kann Teil einer Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage sein. Die Baugruppe kann jedoch auch Teil eines Beleuchtungssystems der Projektionsbelichtungsanlage sein. Die Komponente kann ein beliebiges Bauteil der Projektionsoptik oder des Beleuchtungssystems sein. Beispielsweise kann die Komponente eine Tragstruktur, insbesondere ein Tragrahmen (Engl.: Force frame), ein Spiegeltragrahmen (Engl.: Mirror Support Frame) oder ein Sensorrahmen (Engl.: Sensor Frame), sein. Ferner kann die Komponente auch ein optisches Element, wie beispielsweise ein Spiegel, insbesondere ein EUV-Spiegel, sein. Grundsätzlich kann die Komponente ein beliebiges optisches Element, ein Messinstrument, eine Tragstruktur, ein Spiegeltarget oder dergleichen sein. Die Baugruppe kann beliebig viele Komponenten und beliebig viele Schwingungstilger aufweisen. Jeder Komponente der Baugruppe können beispielsweise mehrere Schwingungstilger zugeordnet sein. Es kann auch jeder Komponente genau ein Schwingungstilger zugeordnet sein. Eine „Eigenmode“ oder „Normalmode“ ist eine spezielle Bewegung eines schwingungsfähigen Systems, vorliegend der Baugruppe, insbesondere der Komponente. Es handelt sich dabei um diejenigen periodischen Bewegungen, bei denen alle Bauteile oder Elemente des Systems die gleiche Frequenz zeigen, wenn das System nach einer Anregung sich selbst überlassen bleibt. Eine solche Frequenz wird als Eigenfrequenz des Systems bezeichnet. Die Anzahl verschiedener Eigenmoden ist gleich der Anzahl der Freiheitsgrade des Systems. Der Schwingungstilger wirkt durch seine mechanischen Eigenschaften dämpfend auf die Eigenmoden der Komponente. Der Schwingungstilger benötigt zur Dämpfung der Eigenmoden spezifische Parameter. Diese Parameter sind die Steifigkeit, die Dämpfung und die Masse. Der Schwingungstilger umfasst hierzu das Dämpfungsglied, das die erforderliche Steifigkeits- und Dämpfungseigenschaften aufweist, sowie eine Tilge