JP-2025522367-A5 -

Dates

Publication Date

20260512

Application Date

20230526

Description

[0212] 以下の特許請求の範囲は、本明細書において示される実施形態に限定されることは意図されておらず、特許請求の範囲の文言と一致する全範囲を与えられるべきである。請求項内では、単数形による要素への言及は、そのように明記されていない限り、「１つ及び１つのみ」を意味するものではなく、むしろ「１つ又は複数」を意味することが意図されている。別段に明記されていない限り、「いくつかの」という用語は、１つ又は複数を指す。請求項の要素は、要素が「の手段」という句を使用して明白に記載されていない限り、又は方法クレームの場合には、要素が「のステップ」という句を使用して記載されていない限り、米国特許法第１１２条（ｆ）の規定の下で解釈されるべきではない。当業者に既知であるか、又は後に知られるようになる、本開示全体を通じて説明される様々な態様の要素の全ての構造的及び機能的等価物は、参照により本明細書に明示的に組み込まれ、請求項によって包含されることが意図される。更には、本明細書に開示のものはいずれも、そのような開示が特許請求の範囲において明示的に記載されているかどうかにかかわらず、公に供されることを意図するものではない。 以下に本願の出願当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。 ［Ｃ１］ プロセッサであって、 設定可能な非線形活性化関数回路であって、 選択された非線形活性化関数に基づいて、前記選択された非線形活性化関数のためのパラメータのセットを決定することと、 前記選択された非線形活性化関数のための前記パラメータのセットの適用に基づいて出力データを生成することと、を行うように構成された設定可能な非線形活性化関数回路、を備え、 前記設定可能な非線形活性化関数回路は、少なくとも２つの逐次線形近似器を含む少なくとも１つの非線形近似器を備え、 前記少なくとも２つの逐次線形近似器の各線形近似器は、前記パラメータのセットのうちの１つ又は複数の関数パラメータを使用して線形関数を近似するように構成されている、 プロセッサ。 ［Ｃ２］ 前記少なくとも２つの逐次線形近似器の各線形近似器は、 ステージ入力と、 係数入力と、 定数入力と、 ステージ出力と、 を備える、 Ｃ１に記載のプロセッサ。 ［Ｃ３］ 少なくとも１つの非線形近似器は、３つの逐次線形近似器を含む三次近似器を備える、Ｃ１に記載のプロセッサ。 ［Ｃ４］ 前記少なくとも１つの非線形近似器は、２つの逐次線形近似器を含む二次近似器を備える、Ｃ１に記載のプロセッサ。 ［Ｃ５］ 前記少なくとも１つの非線形近似器は、入力値領域を決定するように構成された領域発見器構成要素をさらに備え、 前記少なくとも２つの逐次線形近似器の各線形近似器は、前記入力値領域に基づいて前記係数入力及び前記定数入力を決定するようにさらに構成されている、 Ｃ２に記載のプロセッサ。 ［Ｃ６］ 前記少なくとも１つの非線形近似器は、前記少なくとも２つの逐次線形近似器のうちの少なくとも１つの線形近似器からのステージ出力を修正するように構成された符号・オフセット補正器構成要素をさらに備える、Ｃ１に記載のプロセッサ。 ［Ｃ７］ 前記符号・オフセット補正器構成要素は、前記少なくとも２つの逐次線形近似器のうちの前記少なくとも１つの線形近似器からの前記ステージ出力を修正するために、前記ステージ出力の符号を反転させるようにさらに構成されている、Ｃ６に記載のプロセッサ。 ［Ｃ８］ 前記符号・オフセット補正器構成要素は、前記少なくとも２つの逐次線形近似器のうちの前記少なくとも１つの線形近似器からの前記ステージ出力を修正するために、前記ステージ出力にオフセットを加えるようにさらに構成されている、Ｃ６に記載のプロセッサ。 ［Ｃ９］ 前記少なくとも２つの逐次線形近似器の各線形近似器は、前記少なくとも２つの逐次線形近似器の各線形近似器が前記パラメータのセットのうちの１つ又は複数の関数パラメータを使用して線形関数を近似するために、関数近似の１つ又は複数の不均一セグメントを選択することに少なくとも部分的に基づいて、前記１つ又は複数の関数パラメータを選択するようにさらに構成されている、Ｃ１に記載のプロセッサ。 ［Ｃ１０］ 設定可能な非線形活性化関数回路を用いてデータを処理するための方法であって、 選択された非線形活性化関数に基づいて、前記選択された非線形活性化関数のためのパラメータのセットを決定することと、 前記選択された非線形活性化関数のための前記パラメータのセットの適用に基づいて出力データを生成することと、を含み、 前記設定可能な非線形活性化関数回路は、少なくとも２つの逐次線形近似器を含む少なくとも１つの非線形近似器を備え、 前記少なくとも２つの逐次線形近似器の各線形近似器は、前記パラメータのセットのうちの１つ又は複数の関数パラメータを使用して線形関数を近似するように構成されている、 方法。 ［Ｃ１１］ 前記少なくとも２つの逐次線形近似器の各線形近似器は、 ステージ入力と、 係数入力と、 定数入力と、 ステージ出力と、 を備える、 Ｃ１０に記載の方法。 ［Ｃ１２］ 少なくとも１つの非線形近似器は、３つの逐次線形近似器を含む三次近似器を備える、Ｃ１０に記載の方法。 ［Ｃ１３］ 前記少なくとも１つの非線形近似器は、２つの逐次線形近似器を含む二次近似器を備える、Ｃ１０に記載の方法。 ［Ｃ１４］ 前記少なくとも１つの非線形近似器は、入力値領域を決定するように構成された領域発見器構成要素をさらに備え、 前記少なくとも２つの逐次線形近似器の各線形近似器は、前記入力値領域に基づいて前記係数入力及び前記定数入力を決定するようにさらに構成されている、 Ｃ１１に記載の方法。 ［Ｃ１５］ 符号・オフセット補正器構成要素を使用して、前記少なくとも２つの逐次線形近似器のうちの少なくとも１つの線形近似器からのステージ出力を修正することをさらに含む、Ｃ１０に記載の方法。 ［Ｃ１６］ 前記少なくとも２つの逐次線形近似器のうちの前記少なくとも１つの線形近似器からの前記ステージ出力を修正するために、前記符号・オフセット補正器構成要素を使用して前記ステージ出力の符号を反転させることをさらに含む、Ｃ１５に記載の方法。 ［Ｃ１７］ 前記少なくとも２つの逐次線形近似器のうちの前記少なくとも１つの線形近似器からの前記ステージ出力を修正するために、前記符号・オフセット補正器構成要素を使用して、前記ステージ出力にオフセットを加えることをさらに含む、Ｃ１５に記載の方法。 ［Ｃ１８］ 前記少なくとも２つの逐次線形近似器の各線形近似器は、前記少なくとも２つの逐次線形近似器の各線形近似器が、前記パラメータのセットのうちの１つ又は複数の関数パラメータを使用して線形関数を近似するために、関数近似の１つ又は複数の不均一セグメントを選択することに少なくとも部分的に基づいて、前記１つ又は複数の関数パラメータを選択するようにさらに構成されている、Ｃ１０に記載の方法。