JP-2026077157-A - 画像作成システム
Abstract
【課題】FIB装置による削り取りとSEM装置による撮像を交互に、所定の回数繰り返して、対象物の三次元構造解析を精度良く行うことができる画像作成システムを提供する。 【解決手段】FIB装置11と、SEM装置12と、制御装置13と、画像処理装置14と、を備え、対象物2の三次元構造の解析を行うための画像作成システム1において、画像処理装置14は、複数の撮像画像31を構成する画素の輝度の平均値である輝度平均値A1を算出し、画素ごとの輝度と輝度平均値A1との差分に基づいて、複数の撮像画像31間の画素の輝度のばらつきが小さくなるように、複数の撮像画像31の画素ごとの輝度を補正することにより、複数の撮像画像31間の輝度を補正し、補正した第1補正撮像画像32ごとに、各第1補正撮像画像32を構成する画素の輝度差が小さくなるように、補正した第1補正撮像画像32ごとの画素の輝度を補正することにより、各第1補正撮像画像32内の輝度を補正する。 【選択図】図2
Inventors
- 木本 博行
Assignees
- トヨタ自動車株式会社
Dates
- Publication Date
- 20260513
- Application Date
- 20241025
Claims (3)
- 集束イオンビームを対象物の表面に照射することにより、前記表面から一定の体積分、前記対象物を削って、新たな表面を露出させるFIB装置と、 露出した前記新たな表面を撮像し、走査電子顕微鏡で撮像画像を取得するSEM装置と、 前記FIB装置による削り取りと前記SEM装置による撮像を、交互に、所定の回数繰り返すように、前記FIB装置と前記SEM装置とを制御する制御装置と、 前記SEM装置で繰り返し撮像された前記複数の撮像画像の画像処理を行う画像処理装置と、を備え、 画像処理された前記複数の撮像画像から、前記対象物の三次元構造の解析を行うための画像作成システムであって、 前記画像処理装置は、 前記複数の撮像画像を構成する画素の輝度の平均値である輝度平均値を算出し、前記画素ごとの輝度と前記輝度平均値との差分に基づいて、前記複数の撮像画像間の前記画素の輝度のばらつきが小さくなるように、前記複数の撮像画像の前記画素ごとの輝度を補正することにより、前記複数の撮像画像間の輝度を補正し、 補正した前記撮像画像ごとに、各前記撮像画像を構成する前記画素の輝度差が小さくなるように、補正した前記撮像画像ごとの前記画素の輝度を補正することにより、各前記撮像画像内の輝度を補正することを特徴とする、画像作成システム。
- 前記画像処理装置は、各前記撮像画像内の輝度の補正後に、各前記撮像画像の画素の輝度に基づいて、各前記撮像画像の画素を、前記三次元構造に応じて塗分けるものであり、 前記画像処理装置には、前記三次元構造に応じた前記画素の塗分けが可能な、目標輝度平均値と、前記輝度の目標標準偏差が設定されており、 前記複数の撮像画像の全ての画素の輝度の平均値が、前記目標輝度平均値となり、前記複数の撮像画像の全ての画素の輝度に対する標準偏差が、前記目標標準偏差となるように、前記複数の撮像画像間の輝度の補正を行うことを特徴とする、請求項1に記載の画像作成システム。
- 前記画像処理装置は、 前記撮像画像ごとに、矩形状の前記撮像画像の一方の辺方向に沿った画素列の輝度の平均値を、前記画素列ごとに画素列輝度平均値として算出し、 算出した前記画素列ごとの画素列輝度平均値と、前記撮像画像の他方の辺方向に沿った画素列ごとの列位置とをプロットした第1のグラフから、前記撮像画像ごとに、第1近似直線を算出し、 前記列位置と前記第1近似直線の勾配とに基づいて、補正後の前記撮像画像ごとの画素列輝度平均値と前記列位置とをプロットした第2のグラフから、算出された第2近似直線の勾配が、前記第1近似直線の勾配よりも小さくなるように、各前記撮像画像内の輝度の補正を行うことを特徴とする、請求項1に記載の画像作成システム。
Description
本発明は、画像作成システムに関する。 例えば、この種の技術として、特許文献1には、FIB(Focused Ion Beam)装置とSEM(Scanning Electron Microscope)装置を組み合わせた画像作成システムが開示されている。特許文献1に記載の技術では、FIB装置から集束イオンビームを対象物の表面に照射することにより、対象物を削って新たな表面を露出させた後、SEM装置を用いて、露出した新たな表面を撮像し、撮像画像を取得する。 特許第4426871号公報 本実施形態に係る画像作成システムの全体の概略図である。本実施形態に係る画像作成システムを用いて、対象物の三次元構造解析を行う手順を示すフローチャートである。(A)は、SEM装置から取得された撮像画像の一例である。(B)は、複数の撮像画像間の画素の輝度のばらつきが小さくなるように、(A)に示す撮像画像に対して輝度を補正した第1補正撮像画像である。(C)は、(B)に示す第1補正撮像画像を構成する画素内の輝度差が小さくなるように、輝度を補正した第2補正撮像画像である。(A)は、図3(A)に示す撮像画像に対して輝度の補正をせず、対象物の三次元構造に応じて自動的に画素の塗分けを行った塗分け撮像画像である。(B)は、図3(C)に示す第2補正撮像画像の輝度を補正した後、対象物の三次元構造に応じて自動的に画素の塗分けを行った塗分け撮像画像である。(A)は、SEM装置から取得された、全てのうち一枚の撮像画像を構成する画素の輝度のばらつきを示すグラフである。(B)は、複数の撮像画像間の画素の輝度のばらつきが小さくなるように輝度が補正された第1補正撮像画像を構成する画素の輝度のばらつきを示すグラフである。一枚の第1補正撮像画像に対して、その第1補正撮像画像を構成する画素の輝度差が小さくなるように画素の輝度を補正した際の、輝度のばらつきの変化を示すグラフである。 〔実施形態〕 以下、本発明の実施形態について、図1から図6の図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は、本発明の一態様であり、本発明の技術的範囲を限定するものではない。 <構成> 図1は、本実施形態に係る画像作成システム1の全体の概略図である。画像作成システム1は、集束イオンビームBを照射するFIB装置11と、走査電子顕微鏡121で対象物2の撮像画像31(後述の図3(A)に図示)を取得するSEM装置12と、FIB装置11とSEM装置12の稼働を制御する制御装置13と、SEM装置12で繰り返し撮像された複数の撮像画像31の画像処理を行う画像処理装置14等を備える。画像処理装置14は、複数の撮像画像31に基づき、最終的には対象物2の三次元画像を作成することができる。本実施形態において、画像処理装置14が対象物2の三次元画像を作成するにあたっては、最初に、SEM装置12を用いて、対象物2の表面21を撮像し、撮像画像31を取得する。SEM装置12は、走査電子顕微鏡121の内部に電子銃(不図示)を有し、電子銃から電子線Eを照射し、電子線Eで対象物2の表面21を走査する。これによって、二次電子や反射電子が発生し、これらが表面21で反射して走査電子顕微鏡121の内部の第1検出器122に到達することで、表面21を撮像することが可能となる。 次に、FIB装置11を用いて、集束イオンビームBを対象物2の表面21に照射することにより、表面21から一定の体積分、対象物2を削って新たな表面22を露出させた後、SEM装置12を用いて、露出した新たな表面22を上記同様に撮像し、再度撮像画像31を取得する。制御装置13は、FIB装置11による削り取りとSEM装置12による撮像を交互に、所定の回数繰り返すように、FIB装置11とSEM装置12とを制御し、その結果、複数の撮像画像31を取得することができる。 このとき、対象物2はFIB装置11によって徐々に削り取られるため、FIB装置11による削り取りが進行するにつれ、電子線Eが電子銃から照射されてから対象物2の露出した表面に到達するまでの距離が長くなる。このため、第1検出器122に到達する二次電子や反射電子の量が低下し、その結果、一枚の撮像画像31内の画素の輝度差と比較して、複数の撮像画像31間の画素の輝度のばらつきは大きくなる傾向にある。具体的には、撮像画像31を順次取得するに従って、撮像画像31の画素の輝度が、全体的に低下する傾向にあり、同じ構造物の異なる部分を、撮像画像31間で分析しようとしても、精確に分析できないことが想定される。 従って、本実施形態においては、複数の撮像画像31間における画素の輝度のばらつきが小さくなるように補正するべく、画像処理装置14は、複数の撮像画像31を構成する画素の輝度の平均値である輝度平均値A1(後述の図5(A)に図示)を算出し、画素ごとの輝度と輝度平均値A1との差分に基づいて、複数の撮像画像31間の画素の輝度のばらつきが小さくなるように、複数の撮像画像31の画素ごとの輝度を補正することにより、複数の撮像画像31間の輝度を補正する。これによって、複数の撮像画像31から複数の第1補正撮像画像32(後述の図3(B)に図示)が得られ、複数の第1補正撮像画像32間における画素の輝度のばらつきを、小さくすることができる。詳細は、後述の図5(A)および図5(B)を用いて説明する。 ここで、このような複数の撮像画像31間の輝度を補正し、複数の第1補正撮像画像32を取得すると、各第1補正撮像画像32内の補正後の輝度のばらつきが、補正前の撮像画像31間の輝度のばらつきより大きくなる。そこで、本実施形態においては、補正した第1補正撮像画像32ごとに、各第1補正撮像画像32を構成する画素の輝度差が小さくなるように、補正した第1補正撮像画像32ごとの画素の輝度を補正することにより、各第1補正撮像画像32内の輝度を補正し、複数の第2補正撮像画像33を取得する。これによって、複数の第2補正撮像画像33間の輝度のばらつきと、各第2補正撮像画像33内の輝度のばらつきとを、ともに小さくすることができ、複数の第2補正撮像画像33を合成して得られた対象物2の三次元画像に基づき、対象物2の三次元構造解析を精度良く行うことができる。詳細は、後述の図6を用いて説明する。 また、SEM装置12は、電子線Eによる反射電子等を検出する第2検出器123を有しており、第2検出器123は、特定の位置に固定して配置されていてもよい。第1検出器122に加えて、第2検出器123も、反射電子等を検出することができる。第2検出器123を用いることによって、撮像画像31内にコントラスト差を生じさせることができる。 <フローチャート> 以下、図2を用いて、実施形態に係る画像作成システム1を用いて、対象物2の三次元構造解析を行う手順について説明する。図2に示すフローチャートにおいて、大別して、ステップS1からS3は、FIB装置11またはSEM装置12を主体とする工程であり、ステップS4は、制御装置13の制御に係る工程であり、ステップS5からS8は、画像処理装置14を主体とする工程である。 最初に、ステップS1において、SEM装置12を用いて、対象物2の表面21を撮像し、撮像画像31を取得する。次に、ステップS2において、FIB装置11を用いて、表面21から一定の体積分、対象物2を削って新たな表面22を露出させ、ステップS3において、SEM装置12を用いて、露出した新たな表面22を撮像し、再度撮像画像31を取得する。次に、ステップS4において、制御装置13は、ステップS2およびS3のフローが所定の回数繰り返されたかを判断する。ここで、所定の回数とは、対象物2全体の体積を、ステップS2において対象物2がFIB装置11によって削られた一定の体積で除算した値をいう。所定の回数繰り返されていない場合には(ステップS4:No)、再度ステップS2およびS3のフローが実行される。 所定の回数繰り返された場合には(ステップS4:Yes)、ステップS5において、画像処理装置14は、複数の撮像画像31間の画素の輝度のばらつきが小さくなるように、複数の撮像画像31の画素ごとの輝度を補正することにより、複数の撮像画像31間の輝度を補正し、複数の第1補正撮像画像32を取得する。次に、ステップS6において、画像処理装置14は、ステップS5において生じた、各第1補正撮像画像32を構成する画素の輝度差が小さくなるように、各第1補正撮像画像32内の輝度を補正し、複数の第2補正撮像画像33を取得する。 次に、ステップS7において、画像処理装置14は、各第2補正撮像画像33の画素の輝度に基づいて、各第2補正撮像画像33の画素を、三次元構造に応じて塗分ける。ここで、本実施形態において、三次元構造に応じて塗分けるとは、対象物2の異なる部分を、所定の閾値を基準として塗分けることをいう。最後に、ステップS8において、画像処理装置14は、画素を塗分けした各第2補正撮像画像33を合成し、対象物2の三次元画像を作成する。より詳細には、画像処理装置14は、画素を塗分けした各第2補正撮像画像33間を直線でつなぐことによって対象物2の三次元画像を作成する。 図3(A)に、SEM装置12から取得された撮像画像31の一例を示す。この撮像画像31に対して、上記のステップS5における輝度の補正を行うことで、図3(B)に示す第1補正撮像画像32が得られる。当該補正によって、複数の第1補正撮像画像32間における画素の輝度のばらつきは小さくなるが、各第1補正撮像画像32内の輝度のばらつきは、各撮像画像31内の輝度のばらつきより大きくなる。そこで、この第1補正撮像画像32に対して、上記のステップS6における輝度の補正を行うことで、図3(C)に示す第2補正撮像画像33が得られる。当該補正によって、各第2補正撮像画像33を構成する画素の輝度差は、各第1補正撮像画像32を構成する画素の輝度差より小さくなる。 なお、図3(A)に示す撮像画像31に対して、上記のステップS5およびS6における輝度の補正をせず、対象物2の三次元構造に応じて自動的に画素の塗分けを行った場合、図4(A)に示す様な塗分け撮像画像34が得られる。この塗分け撮像画像34を構成する画素の輝度差は大きいため、全体的に暗く、対象物2の撮像箇所を視認することが困難である。 対象物2の撮像箇所を視認することが困難となることを防止するため、上記のステップS5およびS6における輝度の補正をした後に、上記のステップS7における塗分けを自動的に行うことで、図4(B)に示す様な塗分け撮像画像35が得られる。第2補正撮像画像33を構成する画素の輝度差は、撮像画像31を構成する画素の輝度差と比較して小さいため、画素の輝度の大小による境目が明瞭であり、対象物2の撮像箇所を視認することが容易である。よって、第2補正撮像画像33を合成して作成された対象物2の三次元画像に基づき、対象物2の三次元構造について、精度良く解析をすることができる。 図5(A)および図5(B)を用いて、上記のステップS5の具体的な手順について説明する。図5(A)は、SEM装置12から取得された、全てのうち一枚の撮像画像31を構成する画素の輝度のばらつきを示すグラフであり、画素の輝度ごとのピクセル数を示す。図5(A)のグラフは、全ての撮像画像31の各々に対して得られる。ここで、図5(A)および図5(B)のグラフの縦軸が示すピクセル数は、画素の輝度ごとの頻度に相当する。また、図5(A)に示す画素の輝度平均値A1および標準偏差σ1は、SEM装置12から取得された全ての撮像画像31の画素の輝度から算出した値である。 図5(B)は、複数の撮像画像31間の画素の輝度のばらつきが小さくなるように輝度が補正された第1補正撮像画像32を構成する画素の輝度のばらつきを示すグ