JP-2026077974-A - 感光性樹脂組成物、永久レジスト、永久レジストの形成方法、及び永久レジスト用硬化膜の検査方法
Abstract
【課題】簡便な方法による外観検査が可能な永久レジストを形成できる感光性樹脂組成物、簡便な方法による外観検査が可能な永久レジスト、永久レジストの形成方法、及び永久レジスト用硬化膜の検査方法を提供すること。 【解決手段】本開示の一側面は、ベースポリマーと、３６０～５００ｎｍに吸収ピークを有し光照射により発光する化合物と、を含有する感光性樹脂組成物を、基板の一部又は全面に塗布及び乾燥し樹脂膜を形成する工程と、樹脂膜の少なくとも一部を露光する工程と、露光後の樹脂膜を現像してパターン樹脂膜を形成する工程と、パターン樹脂膜を加熱する工程と、を備える、永久レジストの形成方法に関する。 【選択図】なし
Inventors
- 青木 優
- 濱野 芳美
- 鈴木 輝昭
Assignees
- 株式会社レゾナック
Dates
- Publication Date
- 20260513
- Application Date
- 20260309
Claims (1)
- ベースポリマーと、３６０～５００ｎｍに吸収ピークを有し光照射により発光する化合物と、を含有する感光性樹脂組成物を、基板の一部又は全面に塗布及び乾燥し樹脂膜を形成する工程と、 前記樹脂膜の少なくとも一部を露光する工程と、 露光後の樹脂膜を現像してパターン樹脂膜を形成する工程と、 前記パターン樹脂膜を加熱する工程と、 を備える、永久レジストの形成方法。
Description
本開示は、感光性樹脂組成物、永久レジスト、永久レジストの形成方法、及び永久レジスト用硬化膜の検査方法に関する。 各種電子機器の高性能化に伴い半導体の高集積化が進行している。それに伴い、プリント配線板、半導体パッケージ基板等に形成される永久レジスト（ソルダーレジスト）には、様々な性能が要求されている。 永久レジストの形成に用いる感光性樹脂組成物として、例えば、ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、及び光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物、カルボキシル基を有するアルカリ可溶性エポキシ化合物及び光カチオン重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物等が知られている（例えば、特許文献１及び２参照）。 特開平０９－０８７３６６号公報：国際公開第２００８／０１０５２１号 以下、本開示について詳細に説明する。本明細書において、「工程」との語は、独立した工程だけではなく、その工程の所期の作用が達成される限り、他の工程と明確に区別できない工程も含む。「層」との語は、平面図として観察したときに、全面に形成されている形状の構造に加え、一部に形成されている形状の構造も包含される。「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、ある段階の数値範囲の上限値又は下限値は、他の段階の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。 本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、「アクリル酸」及びそれに対応する「メタクリル酸」の少なくとも一方を意味し、（メタ）アクリレート等の他の類似表現についても同様である。本明細書において、「固形分」とは、感光性樹脂組成物に含まれる水、溶剤等の揮発する物質を除いた不揮発分のことであり、該樹脂組成物を乾燥させた際に、揮発せずに残る成分を示し、また２５℃付近の室温で液状、水飴状、及びワックス状のものも含む。 ［感光性樹脂組成物］ 一実施形態に係る永久レジスト用の感光性樹脂組成物は、ベースポリマーと、３６０～５００ｎｍに吸収ピークを有し光照射により発光する化合物と、を含有する。本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、ポジ型の感光性樹脂組成物であっても、ネガ型の感光性樹脂組成物であってもよい。 （３６０～５００ｎｍに吸収ピークを有し光照射により発光する化合物） 感光性樹脂組成物は、（Ｘ）成分として３６０～５００ｎｍに吸収ピークを有し光照射により発光する化合物を含有することで、簡便な方法による外観検査が可能な永久レジストを形成することができる。 （Ｘ）成分の最大吸収波長（λｍａｘ）は、３６０～５００ｎｍの範囲にあり、励起波長４０５ｎｍにおける蛍光強度を高める観点から、λｍａｘは、３７０ｎｍ以上、３８５ｎｍ以上、又は４００ｎｍ以上であってもよく、励起波長４８０ｎｍにおける蛍光強度を高める観点から、４９５ｎｍ以下、４９０ｎｍ以下、又は４８５ｎｍ以下であってもよい。 （Ｘ）成分の融点は、例えば、８０～２５０℃であり、永久レジストの耐熱性を高める観点から、９０℃以上、１００℃以上、又は１５０℃あってもよく、ベースポリマーとの相溶性を向上する観点から、２４５℃以下、２４０℃以下、又は２３５℃以下であってもよい。 （Ｘ）成分としては、例えば、クマリン化合物及びベンゾオキサゾール化合物が挙げられる。（Ｘ）成分は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。 クマリン化合物として、例えば、下記式（１）で表される化合物を用いることができる。 式（１）中、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数３～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１４のアリール基、アミノ基、炭素数１～１０のアルキルアミノ基、炭素数１～２０のジアルキルアミノ基、メルカプト基、炭素数１～１０のアルキルメルカプト基、アリル基、炭素数１～２０のヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アルキル基の炭素数が１～１０のカルボキシアルキル基、アルキル基の炭素数が１～１０のアシル基、炭素数１～２０のアルコキシル基、炭素数１～２０のアルコキシカルボニル基、又は複素環を含む基、ｎは０～４の整数、ｍは０～２の整数をそれぞれ示す。なお、ｎ個のＺ１及びｍ個のＺ２のうち少なくとも２つは環を形成していてもよい。 式（１）における、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びアスタチン等が挙げられる。炭素数１～２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、及びこれらの構造異性体が挙げられる。炭素数３～１０のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基が挙げられる。炭素数６～１４のアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、及びフェナントリル基が挙げられ、これらはハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、アリル基、炭素数１～２０のアルキル基等で置換されていてもよい。炭素数１～１０のアルキルアミノ基としては、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、及びイソプロピルアミノ基が挙げられる。炭素数２～２０のジアルキルアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、及びジイソプロピルアミノ基が挙げられる。炭素数１～１０のアルキルメルカプト基としては、例えば、メチルメルカプト基、エチルメルカプト基、及びプロピルメルカプト基が挙げられる。炭素数１～２０のヒドロキシアルキル基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシイソプロピル基、及びヒドロキシブチル基が挙げられる。アルキル基の炭素数が１～１０のカルボキシアルキル基としては、例えば、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基、及びカルボキシブチル基が挙げられる。アルキル基の炭素数が１～１０のアシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、及びピバロイル基が挙げられる。炭素数１～２０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、及びブトキシ基が挙げられる。炭素数１～２０のアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、及びブトキシカルボニル基が挙げられる。複素環を含む基としては、例えば、ベンゾチアゾリル基、フリル基、チエニル基、ピロリル基、チアゾリル基、インドリル基、及びキノリル基が挙げられる。 式（１）において、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立に炭素数１～２０のアルキル基、アミノ基、炭素数１～１０のアルキルアミノ基、又は炭素数１～２０のジアルキルアミノ基であることが好ましい。この場合においてもｎ個のＺ１及びｍ個のＺ２のうち少なくとも２つは環を形成していてもよい。 解像度及び光感度の観点から、式（１）で表されるクマリン化合物は、下記式（２）で表される化合物であってもよい。式（２）中、Ｚ１、Ｚ２及びｍは上記Ｚ１、Ｚ２及びｍと同義であり、Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基、ｒは０～３の整数をそれぞれ示す。ｒ個のＺ１、ｍ個のＺ２、Ｚ１１及びＺ１２のうち少なくとも２つは環を形成していてもよい。式（２）で表される化合物において、Ｚ１１及びＺ１２は、それぞれ独立に炭素数１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～６のアルキル基であることがより好ましい。好適なＺ１及びＺ２は上記と同様である。 式（２）で表される化合物であって、ｍ個のＺ２、Ｚ１１及びＺ１２のうち少なくとも２つが環を形成している態様としては、下記式（３）で表される化合物、及び、下記式（４）で表される化合物が挙げられる。 式（３）中、Ｚ１、Ｚ１１、Ｚ１２及びｒは上記Ｚ１、Ｚ１１、Ｚ１２及びｒと同義であり、Ｚ２１は、上記Ｚ１と同様の原子又は基を示す。ｓは０～８の整数を示す。好適なＺ１、Ｚ１１及びＺ１２は上記と同様である。 式（４）中、Ｚ１、Ｚ２及びｍは上記Ｚ１、Ｚ２及びｍと同義であり、Ｚ３１及びＺ３２はそれぞれ独立に上記Ｚ１と同様の原子又は基を示す。ｔは０～１の整数、ｕは０～６の整数、ｖは０～６の整数をそれぞれ示す。好適なＺ１及びＺ２は上記と同様である。 式（２）で表される化合物（式（３）及び（４）で表される化合物を含む）としては、例えば、７－アミノ－４－メチルクマリン、７－ジメチルアミノ－４－メチルクマリン、７－ジエチルアミノ－４－メチルクマリン（下記式（５）で表される化合物）、７－メチルアミノ－４－メチルクマリン、７－エチルアミノ－４－メチルクマリン、４，６－ジメチル－７－エチルアミノクマリン（下記式（６）で表される化合物）、４，６－ジエチル－７－エチルアミノクマリン、４，６－ジメチル－７－ジエチルアミノクマリン、４，６－ジメチル－７－ジメチルアミノクマリン、４，６－ジエチル－７－ジエチルアミノクマリン、４，６－ジエチル－７－ジメチルアミノクマリン、４，６－ジメチル－７－エチルアミノクマリン、７－ジメチルアミノシクロペンタ［ｃ］クマリン（下記式（７）で表される化合物）、７－アミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、７－ジエチルアミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、２，３，６，７，１０，１１－ヘキサアンヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－シクロペンタ［３，４］［１］ベンゾピラノ［６，７，８－ｉｊ］キノリジン１２（９Ｈ）－オン、７－ジエチルアミノ－５’，７’－ジメトキシ－３，３’－カルボニルビスクマリン、３，３’－カルボニルビス［７－（ジエチルアミノ）クマリン］、７－（ジエチルアミノ）－３－（２－チエニル）クマリン、及び下記式（８）で表される化合物が挙げられる。 上記以外のクマリン化合物としては、例えば、３－ベンゾイル－７－ジエチルアミノクマリン、７－ジエチルアミノ－４－メチルクマリン、７－ジエチルアミノ－３－フェニルクマリン、３，３’－カルボニルビス（７－ジエチルアミノクマリン）、及び２，３，６，７－テトラヒドロ－９－メチル－１Ｈ、５Ｈ，１１Ｈ－［１］ベンゾピラノ［６，７，８－ｉｊ］キロリジン－１１－オンが挙げられる。 ベンゾオキサゾール化合物として、例えば、２，５－ビス（５－ｔｅｒｔ－ブチル－２－ベンゾキゾリル）チオフェンが挙げられる。 （Ｘ）成分の含有量は、ベースポリマー１００質量部に対して、蛍光強度を高める観点から、０．１質量部以上、０．１５質量部以上、又は０．２質量部以上であってもよく、他成分との相溶性の観点から、３．０質量部以下、２．０質量部以下、又は１．５質量部以下であってもよい。 （ベースポリマー） 本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、（Ａ）成分としてベースポリマーを含有する。（Ａ）成分は、フェノール性水酸基を有する樹脂又は光重合性のエチレン性不飽和基を有する樹脂を含むことが好ましい。 フェノール性水酸基を有する樹脂としては、例えば、ヒドロキシスチレン系樹脂、フェノール樹脂、及びポリベンゾオキサゾール前駆体からなる群より選ばれる少なくとも一種が挙げられる。フェノール性水酸基を有する樹脂は、アルカリ可溶性樹