JP-2026514574-A - パッケージ基板のコア内の埋め込み電子部品を有するパッケージ基板
Abstract
一態様では、電子デバイスであって、上部平面及び内部平面を有するコアと、コアの上部平面を少なくとも部分的に貫いてコアの内部平面へ延在するキャビティと、キャビティ内に実装された電子部品であって、該電子部品が、1つ又は複数の電子部品端子を有する上部平面を含み、電子部品が、電子部品の上部平面がコアの上部平面と同じ高さになるように、コアの内部平面によって支持される、電子部品と、1つ又は複数の電子部品端子から上部メタライゼーション構造の1つ又は複数の上部金属端子への1つ又は複数の導電経路を提供するように構成された上部メタライゼーション構造と、を含む、電子デバイスが開示される。
Inventors
- ソンリュル・チェ
- クイウォン・カン
- ジュン・ウォン・パク
Assignees
- クアルコム,インコーポレイテッド
Dates
- Publication Date
- 20260512
- Application Date
- 20240417
- Priority Date
- 20230501
Claims (20)
- 基板であって、 上部平面を有するコアと、 前記コアの前記上部平面を少なくとも部分的に貫いて前記コアの内部平面へ延在するキャビティと、 前記キャビティ内に実装された電子部品であって、前記電子部品が、1つ又は複数の電子部品端子を有する上部平面を含み、前記電子部品が、前記電子部品の前記上部平面が前記コアの前記上部平面と同じ高さになるように、前記コアの前記内部平面によって支持される、電子部品と、 上部メタライゼーション構造であって、前記1つ又は複数の電子部品端子から前記上部メタライゼーション構造の1つ又は複数の上部金属端子への1つ又は複数の導電経路を提供するように構成された、上部メタライゼーション構造と、 を備える、基板。
- 前記キャビティが階段状断面を有する、請求項1に記載の基板。
- 前記コアの前記内部平面と前記電子部品の下部平面との間に配設された接着層であって、前記接着層が、前記電子部品の前記上部平面が前記コアの前記上部平面と同じ高さになるような厚さを有する、接着層を更に備える、請求項1に記載の基板。
- 前記電子部品が、前記コアの側壁と前記電子部品の側壁との間の領域内に配設された充填材によって少なくとも部分的に包囲される、請求項1に記載の基板。
- 前記充填材が誘電体材料を含む、請求項4に記載の基板。
- 前記充填材の前記誘電体材料が前記上部メタライゼーション構造の1つ又は複数の誘電体層と同じ誘電体材料を含む、請求項5に記載の基板。
- 前記上部メタライゼーション構造の前記上部金属端子が、前記基板上に実装された電子パッケージへの電気接続を提供するように更に構成されている、請求項1に記載の基板。
- 前記1つ又は複数の導電経路が、 前記コアの前記上部平面上に配設された第1のパターニングされたメタライゼーション層であって、前記第1のパターニングされたメタライゼーション層が前記1つ又は複数の電子部品端子に電気接続されている、第1のパターニングされたメタライゼーション層、及び 1つ又は複数の誘電体層を貫いて配設されており、前記第1のパターニングされたメタライゼーション層を前記上部メタライゼーション構造の前記上部金属端子と結合するように構成されている金属ビアを含む、複数の更なるパターニングされたメタライゼーション層、 を含む、請求項1に記載の基板。
- 前記コアが、約760マイクロメートルよりも大きい厚さを有する、請求項1に記載の基板。
- 前記コアが、約820マイクロメートルよりも大きい厚さを有する、請求項1に記載の基板。
- 前記コアが、約1240マイクロメートルよりも大きい厚さを有する、請求項1に記載の基板。
- 前記コアが、前記電子部品の高さよりも大きい厚さを有する、請求項1に記載の基板。
- 前記上部メタライゼーション構造が、前記1つ又は複数の誘電体層の各誘電体層の上にそれぞれ配設されたパターニングされたメタライゼーション層を有する1つ又は複数の誘電体層を含む、請求項1に記載の基板。
- 前記電子部品が少なくとも1つのディープトレンチキャパシタを含む、請求項1に記載の基板。
- 基板であって、 上部平面を有するコアと、 前記コアの前記上部平面を少なくとも部分的に貫いて前記コアの内部平面へ延在するキャビティと、 前記キャビティ内の電子部品であって、前記電子部品が、1つ又は複数の電子部品端子を有する上部平面を含み、前記電子部品が、前記電子部品の前記上部平面が前記コアの前記上部平面と同じ高さになるように、前記コアの前記内部平面によって支持される、電子部品と、 上部メタライゼーション構造であって、前記1つ又は複数の電子部品端子から前記上部メタライゼーション構造の1つ又は複数の上部金属端子への1つ又は複数の導電経路を提供するように構成された、上部メタライゼーション構造と、 を備える、基板を備える、電子デバイス。
- 前記基板上に実装されており、前記上部メタライゼーション構造の前記1つ又は複数の上部金属端子に電気接続された電子回路パッケージを更に備える、請求項15に記載の電子デバイス。
- 前記電子デバイスが、 音楽プレーヤ、ビデオプレーヤ、エンターテイメントユニット、ナビゲーションデバイス、通信デバイス、モバイルデバイス、モバイルフォン、スマートフォン、携帯情報端末、定置型端末、タブレットコンピュータ、コンピュータ、ウェアラブルデバイス、ラップトップコンピュータ、サーバ、モノのインターネット(IoT)デバイス、又は自動車車両内のデバイスのうちの少なくとも1つを含む、請求項15に記載の電子デバイス。
- 基板を形成する方法であって、 コアの上部平面から前記コアの内部平面へ延在するキャビティを形成することと、 電子部品を、1つ又は複数の電子部品端子を有する前記電子部品の上部平面が前記コアの前記内部平面によって支持されるように、前記キャビティ内に挿入することであって、前記電子部品が、前記電子部品の前記上部平面が前記コアの前記上部平面と同じ高さになるように、前記コアの前記内部平面によって支持される、挿入することと、 上部メタライゼーション構造を前記コアの前記上部平面の上に形成することであって、前記上部メタライゼーション構造が、前記1つ又は複数の電子部品端子から前記上部メタライゼーション構造の1つ又は複数の上部金属端子への1つ又は複数の導電経路を提供するように構成されている、形成することと、 を含む、方法。
- 前記キャビティを、階段状断面を有するように形成することを更に含む、請求項18に記載の方法。
- 接着層を前記コアの前記内部平面と前記電子部品の下部平面との間に形成することであって、前記接着層が、前記電子部品の前記上部平面が前記コアの前記上部平面と同じ高さになるような厚さを有する、形成することを更に含む、請求項18に記載の方法。
Description
本開示は、概して、基板に関し、より詳細には、パッケージ基板のコア内に実装された埋め込み電子部品を有するパッケージ基板、及びパッケージ基板を作製する方法に関する。 集積回路(Integrated circuit、IC)技術は、電気部品を小型化することによって計算能力を向上させるうえで大きな進歩を実現している。ICは、その上に集積された回路のセットを有するICチップの形で実現され得る。いくつかの実装形態では、1つ又は複数のICチップがICパッケージによって物理的に担持され、保護され得、1つ又は複数のICチップの様々な電力及び信号ノードは、ICパッケージのパッケージ基板内に形成された電気経路を介してICパッケージのそれぞれの導電端子に電気結合され得る。様々なパッケージング技術を、プロセッサ、サーバ、無線周波数(radio frequency、RF)集積回路等を含む、多くの電子デバイスにおいて見出すことができる。先進的パッケージング及び処理技法は、各機能ブロックが、例えば、マイクロプロセッサ機能、グラフィック処理装置(graphics processing unit、GPU)機能、通信機能(例えば、Wi-Fi、ブルートゥース(登録商標)、及び他の通信)、並びに同様のものなどの、特定の機能を実行するように設計された、複数の機能ブロックを含み得る、複数電子部品デバイス及びシステムオンチップ(system on a chip、SOC)デバイスなどの、複合デバイスを実現するために使用され得る。 いくつかの実装形態では、ディープトレンチキャパシタなどの埋め込み電子部品が、性能改善及びパッケージサイズ縮小のためにICパッケージング内に組み込まれている。このような埋め込み電子部品の使用を促す1つの因子は、それらのより大型の電子部品の対応物と同等又はそれらよりも良い電気的性能を有するスモールフォームファクタ製品を得たいという要求である。パッケージ基板のサイズ及び/若しくは厚さ、並びにその上に担持されたICチップのサイズ及び/若しくはプロセスノードによっては、1つのパッケージングタスクにおける電子部品をパッケージ基板内に埋め込むためのプロセスは、別のパッケージングタスクに適しないことがある。 したがって、より幅広い種々のパッケージングタスクに適し得る、電子部品をパッケージ基板などの基板内に埋め込むための改善された方法が必要とされている。 本開示の態様による、埋め込み電子部品を有する第1の例示的な基板の断面図である。本開示の態様による、埋め込み電子部品を有する第2の例示的な基板の断面図である。本開示の態様による、例示的なディープトレンチキャパシタの断面図である。本開示の態様による、例示的な基板の断面図である。本開示の態様による、例示的な基板の断面図である。本開示の態様による、基板を製造する際に行われる例示的なステップを示す。本開示の態様による、基板を製造する際に行われる例示的なステップを示す。本開示の態様による、基板を製造する際に行われる例示的なステップを示す。本開示の態様による、基板を製造する際に行われる例示的なステップを示す。本開示の態様による、基板を製造する際に行われる例示的なステップを示す。本開示の態様による、基板を製造する際に行われる例示的なステップを示す。本開示の態様による、基板を製造する際に行われる例示的なステップを示す。本開示の態様による、基板を製造するための例示的な方法を示すフローチャートである。本開示の態様による、表面実装基板、集積デバイス、及び集積受動デバイスを含むパッケージの側面図を示す。基板、集積デバイス、及び集積受動デバイスを含むパッケージを製造するための方法の例示的なフロー図を示す。本明細書に記載の電子部品、電子回路、集積デバイス、集積受動デバイス、受動部品、パッケージ、及び/又はデバイスパッケージを集積することが可能な、様々な電子デバイスを示す。 慣例に従って、図面によって描示される特徴は、縮尺とおりに描かれていないことがある。したがって、描示されている特徴の寸法は、明確にするために、任意に拡大又は縮小され得る。慣例に従って、図面のうちのいくつかは、明確にするために簡略化されている。よって、図面は、特定の装置又は方法の全ての部品を描示していないことがある。更に、同様の参照符号は、本明細書及び図の全体で同様の特徴を示す。 特定の実施形態を対象とする以下の説明及び関係する図面において、本開示の態様が示されている。本明細書における教示の範囲から逸脱することなく、代替の態様又は実施形態が考案され得る。加えて、本明細書の例示的な実施形態のよく知られている要素は、本開示における教示の関連する詳細を不明瞭にしないように、詳細には説明されないこと、又は省略されることがある。 いくつかの説明される例示的な実装形態において、様々な構成要素の構造及び動作の一部を既知の従来の技法から取り入れ、次いで、1つ又は複数の例示的な実施形態に従って構成することができる事例が識別される。そのような事例では、本明細書で開示される例示的な実施形態において例示される概念を曖昧にする可能性を回避することを助けるため、既知の従来の構成要素の構造及び/又は動作の一部の内部の詳細が省略され得る。 本明細書で使用される用語は、特定の実施形態について説明するためのものにすぎず、限定を意図するものではない。本明細書で使用される単数形「a」、「an」及び「the」は、文脈が別段に明確に示さない限り、複数形も含むものとする。「備える(comprises)」、「備える(comprising)」、「含む(includes)」及び/又は「含む(including)」という用語は、本明細書で使用されるとき、記述された特徴、整数、ステップ、動作、要素、及び/又は構成要素の存在を明示するが、1つ又は複数の他の特徴、整数、ステップ、動作、要素、構成要素、及び/又はそれらのグループの存在又は追加を排除しないことを更に理解されたい。 図1は、本開示の態様による、埋め込み電子部品を有する第1の例示的な基板100の断面図である。本例では、基板100は、コア102を完全に貫いて延在するキャビティ104を有するコア102を含む。キャビティ104内には、電子部品106が配設されている。電子部品106は、電子部品106への電気接続を提供する金属端子110を有する上面108を有する。本開示の様々な態様によれば、電子部品106は、能動電子部品、受動電子部品(例えば、ディープトレンチキャパシタ(deep trench capacitor、DTC))、ダイ等のうちの1つ又は複数であり得る。 本開示の様々な態様によれば、コア及び埋め込み電子部品を含む本明細書において説明される基板(例えば、基板100)はパッケージ基板を対象とする。パッケージ基板は、ボードにその機械的強度を与え、それが外部デバイスと接続することを可能にする集積回路パッケージの部分である。このようなパッケージ基板は、埋め込み電子部品自体内に含まれ得る基板、基板を含むダイ(例えば、シリコン基板又は他の同様の電子デバイス)などの、他の基板とは区別されるべきである。 基板100は、コア102の上面116の上に横たわる複数の誘電体層112及び対応するパターニングされたメタライゼーション層114を更に含む。電子部品106の金属端子110とパターニングされたメタライゼーション層114との間の電気接続を提供するために、コア102の上面116に、パターニングされたメタライゼーション層118が配設されている。一態様では、複数の誘電体層112を形成する際に使用されるのと同じ誘電体樹脂材料が電子部品106の側壁とキャビティ104の側壁との間のキャビティ104の領域109内で使用され得る。誘電体樹脂を電子部品106の上及び領域109内に分注することは、電子部品106をキャビティ104内に固定する助けとなり、これにより、誘電体樹脂が硬化させられた後に、金属端子110は、パターニングされたメタライゼーション層118の対応する部分と電気接続された状態を維持する。 一態様では、基板100の上面120における最上部のパターニングされたメタライゼーション層114は複数の金属端子122に接続されている。パターニングされたメタライゼーション層114は、電子部品106の金属端子110と金属端子122との間の導電経路を提供する。一態様では、複数の金属端子122は、表面実装デバイスの電子パッケージ(図1には示されていない)への接続のために構成され得る。 一態様では、更なる複数の誘電体層132及び対応するパターニングされたメタライゼーション層134がコア102の下面136の上に横たわる。ここで、コア102の下面136の上に、パターニングされたメタライゼーション層138が配設されている。基板100の下面140における最下部のパターニングされたメタライゼーション層134は複数の金属端子142に接続されている。パターニングされたメタライゼーション層134は、金属端子142への導電経路を提供する。一態様では、複数の金属端子142は、更なる表面実装デバイスの電子パッケージ(図1には示されていない)への、又は他のデバイスとの接続のための回路ボードへの接続のために構成され得る。 図1では、電子部品106は、コア102の厚さH2と実質的に同じである高さH1を有する。基板100の製作中、電子部品106は、キャビティ104と電子部品106との間の領域109を充填するために誘電体樹脂が注入される前に、キャビティ104内に挿入される。挿入中、電子部品106は、金属端子110が、パターニングされたメタライゼーション層118の対応する部分と適切に接触し、電気的に結合することを確実にするために、キャビティ104内に注意深く整列させられる。加えて、領域109内への誘電体樹脂の注入は、電子部品106の初期整列を乱さないよう、注意深く実施されなければならない。一態様では、誘電体樹脂は、硬化させられると、電子部品106をキャビティ104内のその適切な場所において固定する。 電子部品106の高さH1及びコア102の厚さH2が実質的に同じであるシナリオでは、キャビティ104内への電子部品106の挿入並びに誘電体樹脂の後続の注入及び硬化は、図1を参照して説明されるとおりの加工技術を使用して実施され得る。一例では、図1における電子部品の高さH1及びコア102の厚さH2は各々、約760マイクロメートル以下であり得る。 図1に示される基板100の構造は、多くの高性能適用(例えば、計算及び自動車の適用)における使用のために適していたが、現在の動向は、より大きい本体サイズを有する基板を必要とする適用に向けられている。しかし、大きい本体を有する基板は、対処されなければならない固有の設計及び製作課題(例えば、基板の反り、より大きいキャビティサイズの必要性、より大きいキープアウトゾーンの必要性等)を提起する。これらの課題は、少なくとも部分的に、このような基板の設計及び製作において厚いコアを採用することによって対処され得る。例えば、反りの制御は、薄いコアよりも厚いコアでより容易に達成される。加えて、より大きいキャビティサイズ及びキープアウトゾーンの必要性は、このような厚いコアを採用することによって満たされ得る。 しかし、厚いコアを採用する基板は、図1に関連して説明されるタイプの薄いコアを有する基板を製作する際に使用される同じパッケージング技術を使用して製作することが困難になり得る。厚いコアを用いる場合には、電子部品の高さと比べて増大したキャビティの深さからもたらされる大きな間隙が電子部品とキャビティとの間に存在する(例えば、厚いコアは、電子部品の高さよりも大きい厚さを有する)。このような厚いコアのシナリオでは、樹脂注入中にキャビティ内における電子部