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JP-2026514604-A - ウェハ搬送装置及び半導体検出機器

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Abstract

ウェハ搬送装置は、バルブプレート管路と、伝動機構と、載置台とを備え、バルブプレート管路は、バルブプレートと、バルブプレートから第１方向に沿って延在する管路とを備え、載置台は、バルブプレートに接続され、かつ第１方向においてバルブプレートの伝動機構から離れた側に位置し、伝動機構は、管路に接続されており、かつ伝動機構は、バルブプレート管路を駆動して第１方向に沿って移動させるように設けられて、バルブプレートと載置台の第１方向における位置を調節する。伝動機構によりバルブプレート管路を駆動して第１方向に沿って移動させるようにすることにより、バルブプレートの第１方向における位置を変更させて、２つのチャンバを遮断状態と連通状態との間で切り替える。 【選択図】図１

Inventors

  • ミ タオ
  • ハン チュンイン

Assignees

  • チョンケ・ジンユァン・エレクトロン・リミテッド，ベイジン （シイエヌ）

Dates

Publication Date
20260512
Application Date
20240712
Priority Date
20230714

Claims (10)

  1. ウェハ搬送装置であって、 バルブプレート管路と、伝動機構と、載置台とを備え、 前記バルブプレート管路は、バルブプレートと、前記バルブプレートから第１方向に沿って延在する管路とを備え、 前記載置台は、前記バルブプレートに接続され、かつ前記第１方向において前記バルブプレートの前記伝動機構から離れた側に位置し、 前記伝動機構は、前記管路に接続されており、かつ前記伝動機構は、前記バルブプレート管路を駆動して前記第１方向に沿って移動させるように設けられて、前記バルブプレートと前記載置台の前記第１方向における位置を調節する、 ことを特徴とするウェハ搬送装置。
  2. 前記伝動機構は、ベースと、方向転換ストッパ機構と、動力部材とを備え、 前記管路は、前記ベースを貫通し、 前記方向転換ストッパ機構は、それぞれ前記ベースと前記管路に可動的に接続され、 前記動力部材は、前記ベースに設けられ、かつ前記方向転換ストッパ機構に接続され、 前記動力部材は、前記方向転換ストッパ機構を駆動して第２方向において動作させるように設けられて、前記バルブプレート管路の前記第１方向における位置を調整し、 前記第１方向は、前記第２方向に垂直である、 ことを特徴とする請求項１に記載のウェハ搬送装置。
  3. 前記方向転換ストッパ機構は、ガイドベースと、転動体とを備え、 前記ガイドベースには、ガイド溝が設けられており、かつ前記動力部材に接続され、 前記転動体は、前記管路に接続され、かつ前記ガイド溝内に設けられ、 前記動力部材は、前記ガイドベースを駆動して前記第２方向で移動するように設けられて、前記転動体が前記ガイド溝の作用により前記第１方向で移動するようにする、 ことを特徴とする請求項２に記載のウェハ搬送装置。
  4. 前記ガイド溝は、複数の水平溝セグメントと複数の傾斜溝セグメントを含み、前記水平溝セグメントは、前記第２方向に沿って延在し、各前記傾斜溝セグメントは、隣接する２つの前記水平溝セグメントを連通させ、隣接する２つの前記水平溝セグメントは、前記第１方向に間隔をあけて設けられ、 前記動力部材は、前記ガイドベースを駆動して前記第２方向で移動させるように設けられて、前記転動体が対応する前記傾斜溝セグメントの作用により複数の前記水平溝セグメントの間で切り替えるようにする、 ことを特徴とする請求項３に記載のウェハ搬送装置。
  5. 複数の前記水平溝セグメントは、第１水平溝セグメント、第２水平溝セグメント、及び第３水平溝セグメントを含み、前記第１水平溝セグメント、前記第２水平溝セグメント及び前記第３水平溝セグメントは、前記第１方向において上から下への順に間隔をあけて設けられ、 前記転動体が前記第１水平溝セグメントに位置するように設置された時、前記バルブプレートと前記載置台は、前記第１方向において第１位置に位置し、 前記転動体が前記第２水平溝セグメントに位置するように設置された時、前記バルブプレートと前記載置台は、前記第１方向において第２位置に位置し、 前記転動体が前記第３水平溝セグメントに位置するように設置された時、前記バルブプレートと前記載置台は、前記第１方向において第３位置に位置する、 ことを特徴とする請求項４に記載のウェハ搬送装置。
  6. 前記ウェハ搬送装置は、シールアセンブリをさらに備え、 前記シールアセンブリは、第１変形スリーブと、シール支持体とを備え、 前記シール支持体は、前記バルブプレートと前記第１方向において間隔をあけて平行に設けられ、かつ前記バルブプレートと前記伝動機構との間に位置し、前記第１変形スリーブの両端は、それぞれ前記バルブプレートと前記シール支持体とに接続され、共に囲まれて第３チャンバを形成し、 前記管路は、前記第３チャンバ及び前記シール支持体を貫通して前記第３チャンバの外に延出する、 ことを特徴とする請求項１に記載のウェハ搬送装置。
  7. 半導体検出機器であって、 第１チャンバと、第２チャンバと、請求項１乃至６のいずれか１項に記載のウェハ搬送装置とを備え、 前記第１チャンバは、前記第１方向において前記第２チャンバに接続され、前記伝動機構は、前記第２チャンバの外に位置し、前記第１方向において前記第１チャンバから離れた側に位置し、 前記バルブプレートは、前記第２チャンバ内に位置し、前記管路は、前記第１チャンバに連通され、かつ前記バルブプレートは、前記伝動機構の作用により移動するように設けられて、前記第１チャンバと前記第２チャンバとを連通または遮断し、 前記第１チャンバと前記第２チャンバとが遮断状態にある場合、前記載置台は、前記第１チャンバ内に位置し、前記第１チャンバと前記第２チャンバとが連通状態にある場合、前記載置台は、前記第２チャンバ内に位置する、 ことを特徴とする半導体検出機器。
  8. 真空引きモジュールと、圧力開放モジュールとをさらに備え、 前記真空引きモジュールは、前記伝動機構の前記第１方向における前記第２チャンバから離れた側に設けられ、前記管路に連通して前記管路を介して前記第１チャンバを真空引きするために用いられ、 前記圧力開放モジュールは、前記第１チャンバに接続され、前記第１方向において前記第２チャンバから離れた側に位置し、前記第１チャンバを圧力開放するために用いられる、 ことを特徴とする請求項７に記載の半導体検出機器。
  9. 前記圧力開放モジュールは、蓋板と、圧力開放弁とを備え、 前記蓋板は、前記第１チャンバを覆い、かつ前記蓋板を貫通する気道が設けられており、 前記気道は、メイン気道セグメントと、複数の分岐気道セグメントとを備え、 前記圧力開放弁は、前記メイン気道セグメントに連通され、 前記メイン気道セグメントは、第１方向に沿って延在しており、 各前記分岐気道セグメントは、前記メイン気道セグメントＢ１と前記第１チャンバに接続され、前記メイン気道セグメントの中心に対して対称に配置されている、 ことを特徴とする請求項８に記載の半導体検出機器。
  10. 前記真空引きモジュールは、第１ポンプと、第２ポンプと、第１バルブと、中継管路アセンブリとを備え、 前記中継管路アセンブリは、前記管路に接続されており、 前記第１ポンプと前記第２ポンプは、いずれも前記中継管路アセンブリに接続されて前記第１チャンバを真空引きするために用いられ、 前記第１バルブは、前記中継管路アセンブリに接続され、かつ前記第２ポンプの上流に配置されて、第２ポンプの作業を制御し、 前記第１ポンプは、前記第１バルブの上流に位置する、 ことを特徴とする請求項８に記載の半導体検出機器。

Description

本願は、搬送装置の技術分野に属し、特に、ウェハ搬送装置及び半導体検出機器に関する。 従来の半導体検出機器は、インターロック真空チャンバとメイン真空チャンバを備え、インターロック真空チャンバ内には、シリコンウェハを載置するための載置台が設けられ、メイン真空チャンバ内には、プロセスプラットフォームと搬送ロボットが設けられている。インターロック真空チャンバとメイン真空チャンバとの間には、インターロック真空チャンバとメイン真空チャンバを連通または遮断するためのゲートバルブが設けられている。 従来のウェハ搬送プロセスでは、まず、大気側のシリコンウェハをインターロック真空チャンバに置いた後、インターロック真空チャンバに対して真空引きを行い、インターロック真空チャンバの真空度がゲートバルブ開弁条件を満たす場合にゲートバルブを開弁し、メイン真空チャンバ内にある搬送ロボットは、インターロック真空チャンバ内のシリコンウェハをプロセスプラットフォームに搬送するように動作する。現在、このウェハ搬送プロセスは動作が煩雑で、効率が低い。 本願は、ウェハ搬送装置及び半導体検出機器を提供し、従来技術で言及されたウェハ搬送プロセスが煩雑で、効率が低いという技術的問題を解決する。 本願の一態様によれば、ウェハ搬送装置が提供され、当該ウェハ搬送装置は、バルブプレート管路と、伝動機構と、載置台とを備え、バルブプレート管路は、バルブプレートと、バルブプレートから第１方向に沿って延在する管路とを備え、載置台は、バルブプレートに接続され、かつ第１方向においてバルブプレートの伝動機構から離れた側に位置し、伝動機構は、管路に接続されており、かつ伝動機構は、バルブプレート管路を駆動して第１方向に沿って移動させるように設けられて、バルブプレートと載置台の第１方向における位置を調節する。 本願の選択可能な技術案において、伝動機構は、ベースと、方向転換ストッパ機構と、動力部材とを備え、管路は、前記ベースを貫通し、方向転換ストッパ機構は、それぞれベースと管路に可動的に接続され、動力部材は、ベースに設けられ、かつ方向転換ストッパ機構に接続され、動力部材は、方向転換ストッパ機構を駆動して第２方向において動作させるように設けられて、バルブプレート管路の第１方向における位置を調整し、ここで、第１方向は、第２方向に垂直である。 本願の選択可能な技術案において、方向転換ストッパ機構は、ガイドベースと、転動体とを備え、ガイドベースには、ガイド溝が設けられており、かつ動力部材に接続され、転動体は、管路に接続され、かつガイド溝内に設けられ、動力部材は、ガイドベースを駆動して第２方向で移動するように設けられて、転動体がガイド溝の作用により第１方向で移動するようにする。 本願の選択可能な技術案において、ガイド溝は、複数の水平溝セグメントと複数の傾斜溝セグメントを含み、水平溝セグメントは、第２方向に沿って延在し、各傾斜溝セグメントは、隣接する２つの前記水平溝セグメントを連通させ、隣接する２つの水平溝セグメントは、第１方向に間隔をあけて設けられ、動力部材は、ガイドベースを駆動して第２方向で移動させるように設けられて、転動体が対応する傾斜溝セグメントの作用により複数の水平溝セグメントの間で切り替えるようにする。 本願の選択可能な技術案において、複数の水平溝セグメントは、第１水平溝セグメント、第２水平溝セグメント、及び第３水平溝セグメントを含み、第１水平溝セグメント、第２水平溝セグメント及び第３水平溝セグメントは、第１方向において上から下への順に間隔をあけて設けられ、転動体が第１水平溝セグメントに位置するように設置された時、バルブプレートと載置台は、第１方向において第１位置に位置し、転動体が第２水平溝セグメントに位置するように設置された時、バルブプレートと載置台は、第１方向において第２位置に位置し、転動体が第３水平溝セグメントに位置するように設置された時、バルブプレートと載置台は、第１方向において第３位置に位置する。 本願の選択可能な技術案において、ウェハ搬送装置は、シールアセンブリをさらに備え、シールアセンブリは、第１変形スリーブと、シール支持体とを備え、シール支持体は、バルブプレートと第１方向において間隔をあけて平行に設けられ、かつバルブプレートと伝動機構との間に位置し、第１変形スリーブの両端は、それぞれバルブプレートとシール支持体とに接続され、共に囲まれて第３チャンバを形成し、管路は、第３チャンバ及びシール支持体を貫通して第３チャンバの外に延出する。 本願の別の態様によれば、半導体検出機器が提供され、当該半導体検出機器は、第１チャンバと、第２チャンバと、上記のウェハ搬送装置とを備え、第１チャンバは、第１方向において第２チャンバに接続され、伝動機構は、第２チャンバの外に位置し、第１方向において第１チャンバから離れた側に位置し、バルブプレートは、第２チャンバ内に位置し、管路は、第１チャンバに連通される。かつ、バルブプレートは、伝動機構の作用により移動するように設けられて、第１チャンバと第２チャンバとを連通または遮断し、第１チャンバと第２チャンバとが遮断状態にある場合、載置台は、第１チャンバ内に位置し、第１チャンバと第２チャンバとが連通状態にある場合、載置台は、第２チャンバ内に位置する。 本願の選択可能な技術案において、真空引きモジュールと、圧力開放モジュールとをさらに備え、真空引きモジュールは、伝動機構の第１方向における第２チャンバから離れた側に設けられ、管路に連通して管路を介して第１チャンバを真空引きするために用いられ、圧力開放モジュールは、第１チャンバに接続され、第１方向において第２チャンバから離れた側に位置し、第１チャンバを圧力開放するために用いられる。 本願の選択可能な技術案において、圧力開放モジュールは、蓋板と、圧力開放弁とを備え、蓋板は、第１チャンバを覆い、かつ蓋板を貫通する気道が設けられており、気道は、メイン気道セグメントと、複数の分岐気道セグメントとを備え、圧力開放弁は、メイン気道セグメントに連通され、メイン気道セグメントは、第１方向に沿って延在しており、各分岐気道セグメントは、メイン気道セグメントＢ１と第１チャンバに接続され、メイン気道セグメントの中心に対して対称に配置されている。 本願の選択可能な技術案において、真空引きモジュールは、第１ポンプと、第２ポンプと、第１バルブと、中継管路アセンブリとを備え、中継管路アセンブリは、管路に接続されており、第１ポンプと前記第２ポンプは、いずれも中継管路アセンブリに接続されて第１チャンバを真空引きするために用いられ、第１バルブは、中継管路アセンブリに接続され、かつ第２ポンプの上流に配置されて、第２ポンプの作業を制御し、第１ポンプは、第１バルブの上流に位置する。 上述のように、本願に係るウェハ搬送装置及び半導体検出機器は、少なくとも以下の有益な効果を有する。 本願に係るウェハ搬送装置では、伝動機構によりバルブプレート管路を駆動して第１方向に沿って移動するようにすることにより、バルブプレートの第１方向における位置を変更させて、第１チャンバと第２チャンバとを遮断状態と連通状態との間で切り替える。また、シリコンウェハを載置するための載置台がバルブプレートに設けられているため、バルブプレートと共に第１方向で移動して第１チャンバまたは第２チャンバに入ることができる。バルブプレートが第１方向に沿って移動して２つチャンバの間の状態を切り替える過程において、バルブプレートには載置台が集積されてシリコンウェハを同期的に搬送する。これにより、バルブプレートは、両チャンバを連通状態と遮断状態との間で切り替えるためだけでなく、シリコンウェハを搬送する作用も果たすことができることがわかる。これにより、伝動プロセスを大幅に短縮し、効率を向上させる。 本願の特定の実施形態または従来技術における技術案をより明確に説明するために、以下、特定の実施形態または従来技術の記載において必要な図面を簡単に説明する。以下の記載における図面は、本願のいくつかの実施形態であり、当業者にとって、創造的な労働を要することなく、これらの図面に基づいて他の図面を得ることは明らかである。 本願の一実施例に係る半導体検出機器の部分概略図である。 図１のウェハ搬送装置の概略図である。 図１における真空引きモジュールとバルブプレート管路との協働する概略図である。 本願の一実施例に係るガイドベースの模式図である。 図４におけるガイドベースの別角度から見た模式図である。 図１の蓋板の断面図である。 本願の記載において、「中心」、「縦方向」、「横方向」、「長さ」、「幅」、「厚さ」、「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」、「垂直」、「水平」、「頂」、「底」、「内」、「外」、「時計回り」、「反時計回り」、「軸方向」、「径方向」、「周方向」などの方位や位置関係を示す用語が現れる場合、特別な説明がなければ、図面に示された方位や位置関係に基づくものであり、本願の説明を容易にし、記載を簡略化するためのものであって、示された装置や素子が特定の方位を有し、特定の方位で構成され操作されることを指示または暗示するものではない。よって、本願に対する限定として理解されてはならない。 また、「第１」、「第２」などの単に記載目的で用いられる限定用語が現れる場合、相対的な重要性を指示や暗示、または指示された技術的特徴の数を暗黙的に示すことと理解されてはならない。「第１」、「第２」で限定された特徴は、少なくとも１つの当該限定された特徴を明示的または暗黙的に含んでもよい。「複数」という記載は、特に明記しない限り、通常、少なくとも２つ、例えば、二つ、三つなどを含むことを意味する。 本願では、特に明記しない限り、「取り付け」、「連結」、「接続」、「固定」などの用語は広く理解されるべきである。例えば、固定的な接続であってもよいし、取り外し可能な接続であってもよいし、一体的な接続であってもよいし、機械的な接続であってもよいし、電気的な接続であってもよいし、直接に接続されてもよいし、中間媒体を介して間接的に接続されてもよいし、２つの要素の内部の連通または２つの要素の相互作用関係であってもよい。当業者であれば、具体的な状況に応じて本願における上記用語の具体的な意味を理解することができる。 本明細書の記載において、「一実施例」、「いくつかの実施例」、「例」、「具体的な例」、または「いくつかの例」などの用語が現れる場合、当該実施例または例を参照して説明された具体的な特徴、構造、材料または特性が本願の少なくとも１つの実施例または例に含まれることを意味する。本明細書において、上記用語に対する概略的な表現は、必ずしも同じ実施例または例に対するものではない。また、説明された具体的な特徴、構造、材料または特徴は、いずれか１つまたは複数の実施例または例において適切な方式で組み合わせることができる。また、互いに矛盾しない限り、当業者は、本明細書に記載された異なる実施例または例、及び異なる実施例または例の特徴を結合及び組み合わせることができる。 図１は、本願の一実施例に係る半導体検出機器の部分概略図であり、図１には、当該半導体検出機器とシリコンウェハとの搬送に関する構造が示されている。図１を参照すると、当該半導体検出機器は、第１チャンバＲ１と、第２チャンバＲ２と、ウェハ搬送装置１００とを備える。当該ウェハ搬送装置１００は、バルブプレート管路１０と、伝動機構２０と、載置台とを備える。 図２は、図１のウェハ搬送装置１００の概略図である。図２を参照すると、バルブプレート管路１０は、バルブプレート１１と、管路１２とを備え、バルブプレー