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KR-102961339-B1 - 얼라인먼트 유닛용의 방진 구조체

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Abstract

OAS 방식의 얼라인먼트 유닛용의 방진 커버로서 바람직한, 얼라인먼트 유닛용의 방진 구조체를 제공한다. 개구를 형성하는 프레임체와, 프레임체의 일방면측에, 개구를 덮도록 전장 지지된 방진막을 구비한, 얼라인먼트 유닛용의 방진 구조체로서, 방진 구조체를 얼라인먼트 유닛에 기계적으로 고정하기 위한 고정부와, 방진 구조체를 얼라인먼트 유닛에 고정하기 위한 자석 중 적어도 일방을 구비한다.

Inventors

  • 히라노 마사카츠
  • 구로카와 겐이치

Assignees

  • 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤

Dates

Publication Date
20260506
Application Date
20210817
Priority Date
20200820

Claims (15)

  1. 개구를 형성하는 프레임체와, 상기 프레임체의 일방면측에, 상기 개구를 덮도록 전장 지지된 방진막을 구비한 방진 구조체로서, 상기 방진막은, 파장 440 ∼ 780 ㎚ 의 광에 대해, 입사각 -10°∼ 10°에 있어서의 투과율이 80 ％ 이상이고, 상기 방진막을 구성하는 재료가 니트로셀룰로오스, 셀룰로오스 유도체 또는 불소 폴리머이고, 또한, 상기 방진막의 막두께는, 1.5 ∼ 8.0 ㎛ 이고, 상기 방진 구조체를 얼라인먼트 유닛에 기계적으로 고정하기 위한 고정부와, 상기 방진 구조체를 얼라인먼트 유닛에 고정하기 위한 자석 중 적어도 일방을 구비하는, OAS 방식의 얼라인먼트 유닛용의 방진 구조체.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 방진막의 펄럭임량이, -3.0 mm ∼ ＋3.0 mm 인, 방진 구조체.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 프레임체의 일방면측은, 상기 방진막이 배치되는 부분과, 상기 방진막이 배치되어 있지 않은 부분을 갖고, 상기 고정부는, 상기 프레임체의 일방면측에 있어서의, 상기 방진막이 배치되어 있지 않은 부분에 형성되는, 방진 구조체.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 프레임체에 포함되는 황산 이온이 0.3 ppm 이하인, 방진 구조체.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 프레임체의 타면측은, 점착층이 형성되어 있지 않은, 비점착면으로 되어 있는, 방진 구조체.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 합계 2 개 이상 합계 16 개 이하의 상기 고정부를 구비하는, 방진 구조체.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 프레임체는, 상기 개구를 형성하는 내주부와, 상기 내주부의 측면의 일부로부터 외측으로 돌출되는 외측부를 구비하는, 방진 구조체.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 외측부는, 상기 방진 구조체를 얼라인먼트 유닛에 나사 고정하기 위한 나사 홈 및/또는 나사 구멍을 획정하는 상기 고정부를 갖는, 방진 구조체.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 방진 구조체는, 그 방진 구조체를 매달아 올리기 가능하게 하는 단차 및/또는 경사를 포함하는 지그 걸이부를 갖는, 방진 구조체.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 지그 걸이부는, 상기 내주부에 있어서의, 상기 외측부가 형성된 상기 측면에 형성되는, 방진 구조체.
  11. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 프레임체의 평탄도가 0 초과 200 ㎛ 이하인, 방진 구조체.
  12. 제 7 항에 있어서, 상기 고정부가 상정하는 나사의 중심축을 포함하고, 또한, 상기 방진막에 직교하는 절단면에서 봤을 때, 하기 (1) ∼ (3) 중 어느 것을 만족하는 영역을 포함하는, 방진 구조체. (1) 상기 방진막이 상기 내주부에 전장 지지된 부분의 폭 (T1) 이, 상기 내주부의 두께 (H1) 를 초과한다 (T1 ＞ H1 ＞ 0) (2) 상기 외측부의 두께 (H2) 가, 상기 내주부의 두께 (H1) 의 1/2 이하 (1/2·H1 ≥ H2 ＞ 0) 이다 (3) 상기 개구의 나사 수용폭 (T3) 에 대한, 상기 내주부 및 상기 외측부의 합계폭 (T2) 의 비 (T2/T3) 가 1 ∼ 13 의 범위 내이다
  13. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 프레임체와, 상기 방진막은, 서로 상이한 고유 진동수를 갖는, 방진 구조체.
  14. 삭제
  15. 삭제

Description

얼라인먼트 유닛용의 방진 구조체 본 발명은, 얼라인먼트 유닛용의 방진 구조체에 관한 것이다. 포토리소그래피의 세계에서는, 반도체의 IC 칩과 같은 소면적에 대한 노광에 더하여, 액정 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이와 같은, 보다 넓은 면적에 대한 일괄 노광 기술이 개발되어 있다. 이와 같은 대면적에 대한 일괄 노광으로서, 미러 투영 광학 방식의 노광 장치 등이 출시되어 있다. 미러 투영 광학 방식의 노광 장치의 기본 구성은, 극한의 가공 정밀도로 만들어진 큰 오목면 미러와 작은 볼록면 미러, 및 사다리꼴 미러로 이루어진다. 유닛 상부에 장착된 포토마스크에 자외선을 조사하고, 복수회 (예를 들어, 5 회) 의 반사를 거쳐 유리 기판 상에 포토마스크 상의 회로 패턴을 전사 노광한다. 최근, 플랫 패널 업계에서는, 스마트폰이나 태블릿 단말 등을 대상으로 패턴의 고정세화가 진행되고 있다. 그리고, 고정세화를 실현하기 위한 수법의 하나로서, 노광 장치 내에서의 노광광의 초점 위치를 노광 기판의 면 위치와 일치시켜 스캔 노광시키는 것이 요망되고 있다. 이 경우, 보다 신속하고 정확한 얼라인먼트 기술의 개발도 필요하게 된다. 그러나, 유리 기판은 열처리 등을 거치면 기판의 절대 치수 자체가 변화해 버리는 경우가 있기 때문에, 전 (前) 공정에서 형성된 패턴 좌표에는 다양한 변형이 발생되어 있어, 이 변형의 상태를 정확하게 파악하기 위해서 많은 기준점의 위치 계측이 필요해진다. 종래에는, 실제의 미러 광학계의 광로를 통하여 포토마스크와 기판의 얼라인먼트 마크의 겹침 상태를 계측하는 방식 (AS 방식 : Alignment Scope 방식) 이 채용되고 있었지만, 최근에는, 광로를 통하지 않고 기판의 근처에서 직접 마크를 관측하고, 간접적으로 위치 맞춤을 하는 새로운 계측 방식 (OAS 방식 : Off-axis Scope 방식) 이 도입되고 있다 (예를 들어, 특허문헌 1). AS 방식 및/또는 OAS 방식에 의해 상기의 계측을 실시하는 장치는, 예를 들어 얼라인먼트 유닛이라고 불리며, 노광 장치와 조합하여 사용된다. 도 1 은, 본 발명의 방진 구조체의 일 구성예를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 2 는, 노광 장치에 있어서, 노광용 광학계를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 3 은, 노광 장치에 있어서, 얼라인먼트용 광학계를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 4 는, 본 발명의 방진 구조체의 다른 일 구성예를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 5 는, 본 발명의 방진 구조체의 다른 일 구성예를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 6 은, 본 발명의 방진 구조체의 다른 일 구성예를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 7 은, 본 발명의 방진 구조체의 다른 일 구성예를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 8 은, 본 발명의 방진 구조체의 다른 일 구성예를 모식적으로 나타내는 도면이다. (실시형태 1) 이하, 본 발명을 실시하기 위한 실시형태 (이하, 「본 실시형태」라고 칭한다) 에 대해 상세하게 설명한다. 도 1 은, 본 실시형태의 방진 구조체의 일 구성예를 모식적으로 나타내는 도면으로, (a) 는 평면도, (b) 는 단면도이다. 본 실시형태의 방진 구조체 (1) 는, 얼라인먼트 유닛용의 방진 구조체이고, 개구 (2a) 를 갖는 프레임체 (2) 와, 프레임체 (2) 의 일방면측에, 개구 (2a) 를 덮도록 전장 지지된 방진막 (3) 과, 방진 구조체 (1) 를 얼라인먼트 유닛에 기계적으로 고정하기 위한 고정부를 구비한다. ＜노광 장치＞ 본 실시형태의 방진 구조체 (1) 는, OAS 방식의 얼라인먼트 유닛의 방진 커버로서 바람직하다. 먼저, 본 실시형태의 방진 구조체 (1) 가 적용되는, OAS 방식의 얼라인먼트 유닛을 구비한 노광 장치에 대해 설명한다. 도 2 및 도 3 은, 노광 장치의 일 구성예를 모식적으로 나타내는 도면으로, 도 2 에서는 주로 노광용 광학계를 나타내고, 도 3 에서는 얼라인먼트용 광학계를 주로 나타내고 있다. 노광 장치 (10) 는, 패턴 (11a) 이 형성되어 있는 마스크 (11), 마스크 (11) 를 탑재하여 X, Y 및 θ 방향으로 이동 가능한 마스크 스테이지 (12), 각종 패턴 (예를 들어, 회로 패턴이나 화소 패턴) 이 포토리소그래피의 수단으로 형성되는 기판 (13), 기판 (13) 을 유지하여 X, Y 및 θ 방향으로 이동 가능한 기판 스테이지 (14) 와, 조명 광학계 (15) 와, 미러 투영계를 구비한다. 마스크 스테이지 (12) 및 기판 스테이지 (14) 는, 각각 도시되지 않은 모터에 의해 X, Y 방향으로 이동된다. 조명 광학계 (15) 는, 특정한 파장의 광으로 노광 위치에 있는 마스크 (11) 를 조명하고, 마스크 (11) 상의 패턴 (11a) 을 개재하여 기판 (13) 상의 감광층 (13a) (레지스트) 을 노광함으로써, 마스크 (11) 상의 패턴 (11a) 을 기판 (13) 에 전사 가능하게 한다. 미러 투영계는, 오목면경 (16), 볼록면경 (17) 및 절곡경 (18) (사다리꼴 미러) 의 조합에 의해 구성되고, 마스크 스테이지 (12) 에 의해 소정 위치에 얼라인먼트된 마스크 (11) 의 패턴 이미지를 기판 (13) 상에 등배 투영한다. 마스크 스테이지 (12) 와 기판 스테이지 (14) 를 동기 스캔 제어함으로써, 마스크 (11) 에 묘화되어 있는 패턴 (11a) 이 기판 (13) 상의 감광층 (13a) (레지스트) 에 전사된다. 이 동기 스캔 제어에 의한 전사 노광 처리를, 기판 스테이지 (14) 를 스텝 이동시키면서 반복 실시함으로써, 기판 (13) 의 전체면에 패턴이 전사된다. 노광 장치 (10) 에 있어서, 얼라인먼트용 광학계는, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 얼라인먼트 스코프 (AS : Alignment Scope) (20) 와, 오프액시스 얼라인먼트 스코프 (OAS : Off-axis Scope) (21) 를 구비한다. AS (20) 는, 조명 광학계 (15) 로부터 조사되는 노광광을 사용하고, 노광용 광학계의 광로를 통하여 마스크 (11) 와 기판 (13) 의 얼라인먼트 마크의 겹침 상태를 계측한다. OAS (21) 는, 노광광과는 상이한 파장의 조명광 (비노광광) 을, 기판 (13) 상의 얼라인먼트 마크에 조사하는 조명부 (21a) 와, 반사광을 촬상하는 촬상부 (도시 생략) 를 구비한다. 촬상된 화상은, 화상 처리 장치 (도시 생략) 에서 계측 처리되어 얼라인먼트 마크의 위치가 취득된다. 그리고, 이 계측 결과로부터 각 보정량 (X, Y 의 시프트 성분, 회전 성분, X, Y 의 배율 성분, X 와 Y 의 직각도 성분) 이 계산된다. 마스크 스테이지 (12) 및 기판 스테이지 (14) 의 제어를 실시하는 제어 장치 (도시 생략) 는, 그 보정량에 따라서 미러 투영계의 배율 및 기판 스테이지 (14) 의 위치·회전 및 마스크 스테이지 (12) 와 기판 스테이지 (14) 의 동기 편차량을 보정하면서, 노광 처리를 실시한다. 본 실시형태의 방진 구조체 (1) 는, 예를 들어, 상기 서술한 바와 같은 노광 장치 (10) 에 있어서, OAS (21) 의 하부에 장착되어 사용된다 (도 3 참조). 이하, 본 실시형태의 방진 구조체 (1) 에 대해 설명한다. ＜방진 구조체＞ 방진 구조체 (1) 는, 얼라인먼트 유닛용의 방진 구조체로서, 개구 (2a) 를 형성하는 프레임체 (2) 와, 프레임체 (2) 의 일방면측에, 개구 (2a) 를 덮도록 전장 지지된 방진막 (3) 을 구비한다. 그리고, 본 실시형태의 방진 구조체 (1) 는, 방진 구조체 (1) 를 얼라인먼트 유닛 (OAS (21)) 에 기계적으로 고정하기 위한 고정부를 구비한다. 프레임체 (2) 는, 방진막 (3) 을 전장 지지함과 함께, 방진 구조체 (1) 를 얼라인먼트 유닛에 장착할 때의 고정부를 구비한다. 프레임체 (2) 는, 방진막 (3) 을 프레임체 (2) 에 장설 (張設) 할 수 있는 임의의 형태를 가질 수 있고, 예를 들어, 프레임체 (2) 의 정면에서 봤을 때에는, 방형, 다각형, 원형, 타원형 등의 외형을 가질 수 있다. 방형은, 정방형, 장방형 등이고, 모서리가 직각인 경우와, 모서리가 둥그스름한 대략 방형인 경우의 양방을 가질 수 있다. 다각형은, 삼각형, 사다리꼴, 평행 사변형, 오각형, 육각형 등이다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 프레임체 (2) 는, 가장자리부를 갖는다. 가장자리부는, 직선상으로 연장되는 봉상의 가장자리 부재를 가질 수 있다. 1 쌍의 가장자리 부재는, 서로 간격을 두고 평행하게 배치될 수 있고, 마찬가지로, 다른 1 쌍의 가장자리 부재도 서로 간격을 두고 평행하게 배치될 수 있다. 접촉하고 있는 2 개의 가장자리 부재는, 서로 대략 직각을 이루도록 단부가 접속될 수 있다. 그리고 닫혀진 형상으로 접속된 가장자리 부재에 의해 개구 (2a) 가 구획된다. 프레임체 (2) 및 그 가장자리 부재는, 예를 들어, 알루미늄 ; 알루미늄 합금 (예를 들어 5000 계, 6000 계, 7000 계 등) ; 철강 ; 스테인리스강 ; 마그네슘 합금 ; 세라믹스 (예를 들어 SiC, AlN, Al2O3 등) ; 세라믹스와 금속의 복합 재료 (예를 들어, Al-SiC, Al-AlN, Al-Al2O3 등) ; PE, PA, PC, PEEK 등의 엔지니어링 플라스틱 ; GFRP, CFRP 등의 섬유 복합 재료 ; 또는 이들의 조합 등의 이미 알려진 재료로 형성될 수 있다. 알루미늄의 경우, 알루마이트 처리에 의해 양극 산화 피막이 형성되어 있어도 된다. 알루마이트에는, 일반적으로, 전해 처리의 처리욕으로서 황산욕을 사용한 황산 알루마이트나, 옥살산욕을 사용한 옥살산 알루마이트 등을 들 수 있지만, 황산을 실질적으로 포함하지 않는 것 (황산 프리) 인 것이 바람직하다. 특히, 본 실시형태의 방진 구조체 (1) 에서는, 프레임체 (2) 에 포함되는 황산 이온이 0.3 ppm 이하인 것이 바람직하다. 노광광의 열로 감광층 등으로부터 이온이나 아웃 가스 등이 발생할 가능성이 있다. 또한, 프레임체 표면의 산화 피막이 분해될 우려가 있다.