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KR-20260061011-A - DRYING APPARATUS, DRYING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY PANEL

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Abstract

기판에 배치된 액막을 건조시키는 건조 장치는, 챔버와, 상기 챔버의 내부 공간에 있어서 상기 기판을 덮는 정류 커버와, 상기 정류 커버의 내측에 배치된 기체 방출체와, 상기 정류 커버에 의해 상기 기판이 덮인 상태로 상기 챔버의 상기 내부 공간을 감압하는 감압 기구와, 상기 기체 방출체에 유체를 공급하는 공급부를 구비한다.

Inventors

  • 이이무라 아키코
  • 키시모토 카츠시

Assignees

  • 캐논 가부시끼가이샤

Dates

Publication Date
20260506
Application Date
20251010
Priority Date
20241025

Claims (20)

  1. 기판에 배치된 액막을 건조시키는 건조 장치로서, 챔버와, 상기 챔버의 내부 공간에 있어서 상기 기판을 덮는 정류 커버와, 상기 정류 커버의 내측에 배치된 기체 방출체와, 상기 정류 커버에 의해 상기 기판이 덮인 상태로 상기 챔버의 상기 내부 공간을 감압하는 감압 기구와, 상기 기체 방출체에 유체를 공급하는 공급부를, 구비하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 공급부는, 상기 유체를 기체 상태로 상기 기체 방출체에 공급하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 공급부는, 상기 액체를 액체 상태로 상기 기체 방출체에 공급하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 공급부는, 상기 기체 방출체에 유체를 공급하도록 상기 챔버의 측벽을 관통하도록 배치된 공급로를 포함하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 공급로는, 상기 정류 커버의 측벽을 관통하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 정류 커버는, 상기 정류 커버의 측면에 의해 둘러싸인 공간을 복수의 영역으로 분할하는 파티션을 포함하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 기체 방출체는, 상기 파티션에 설치된 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 기체 방출체는, 상기 유체를 흡수하여 상기 유체를 기체 상태로 방출하는 다공질체를 포함하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 기체 방출체는, 4개의 변을 갖는 프레임 형상을 가지며, 상기 4개의 변 중 적어도 하나의 변은, 두께가 변화하는 부분을 갖는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  10. 제 8 항에 있어서, 상기 기체 방출체는, 4개의 변을 갖는 프레임 형상을 가지며, 상기 4개의 변 중 적어도 하나의 변은 높이가 변화하는 부분을 갖는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  11. 제 8 항에 있어서, 상기 기체 방출체는, 4개의 구석부 및 4개의 변을 갖는 프레임 형상을 가지며, 각 구석부에서의 공극률은, 각 변의 중앙부에서의 공극률보다 큰 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  12. 제 8 항에 있어서, 상기 공급부는, 상기 기체 방출체의 복수의 개소에 각각 접속된 복수의 공급로와, 상기 복수의 공급로를 통해 상기 기체 방출체에 공급되는 유체의 양을 개별적으로 제어하는 유체 제어기를 포함하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  13. 제 8 항에 있어서, 상기 기체 방출체는, 프레임 형상을 갖고, 상기 공급부는, 상기 기체 방출체에 상기 유체를 공급 가능하게 상기 프레임 형상을 따라 배치된 유체 수용실과, 상기 유체 수용실의 내부 공간의 복수의 개소의 단면적을 조정하는 조정 기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 공급부가 상기 기체 방출체에 상기 유체를 공급하는 기간은, 상기 챔버에 대한 상기 기판의 반송이 개시되고 나서 상기 기판을 상기 정류 커버가 덮을 때까지의 기간의 적어도 일부를 포함하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
  15. 기판에 배치된 액막을 건조시키는 건조 방법으로서, 챔버의 내부 공간에 배치된 정류 커버의 내측에 배치된 기체 방출체에 유체를 보유시키는 보유 공정과, 상기 챔버의 내부 공간에 있어서, 상기 기판이 상기 정류 커버에 의해 덮인 상태에서, 상기 내부 공간을 감압하는 감압 공정을, 포함하고, 상기 감압 공정에 있어서, 상기 기체 방출체는, 상기 유체를 기체 상태로 방출하는 것을 특징으로 하는 건조 방법.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 보유 공정에서는, 상기 기체 방출체는, 상기 유체를 기체 상태로 보유하는 것을 특징으로 하는 건조 방법.
  17. 제 15 항에 있어서, 상기 보유 공정에서는, 상기 기체 방출체는, 상기 유체를 액체 상태로 보유하는 것을 특징으로 하는 건조 방법.
  18. 제 15 항에 있어서, 상기 기체 방출체는, 상기 유체를 흡수하여 상기 유체를 기체 상태로 방출하는 다공질체를 포함하는 것을 특징으로 하는 건조 방법.
  19. 제 15 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 보유 공정이 실행되는 기간은, 상기 챔버에 대한 상기 기판의 반송이 개시되고 나서 상기 기판을 상기 정류 커버가 덮을 때까지의 기간의 적어도 일부를 포함하는 것을 특징으로 하는 건조 방법.
  20. 표시 패널의 제조 방법으로서, 기판상에 액막을 배치하는 배치 공정과, 청구항 1 내지 13 중 어느 한 항에 기재된 건조 장치에 의해 상기 액막을 건조시키는 건조 공정과, 상기 건조 공정을 거친 상기 기판을 처리하여 표시 패널을 얻는 처리 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널의 제조 방법.

Description

건조 장치, 건조 방법, 및 표시 패널의 제조 방법{DRYING APPARATUS, DRYING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY PANEL} 본 개시는, 건조 장치, 건조 방법 및 표시 패널의 제조 방법에 관한 것이다. OLED(Organic Light Emitting Diode) 디스플레이 등의 디바이스의 제조에 있어서, 기판상에 유기재 재료료의 액막을 배치하고, 그 액막을 감압 건조시키는 처리가 있다. 특허문헌 1에는, 유기 기능성 잉크를 기판상의 도포 영역에 도포하여 막을 형성한 후, 그 막을 건조 장치의 챔버 내에서 건조시키는 방법이 기재되어 있다. 이 방법에서는, 도포 영역의 주위로부터 용매를 공급하면서, 챔버 내의 압력을 유기 기능성 잉크의 용매의 증기압 이하로 함으로써, 건조 후의 막의 형상을 균일하게 한다. 특허문헌 1에 기재된 건조 장치는, 기판의 도포 영역의 4구석에 용매를 공급하는 용매 공급 기구를 갖고, 용매 공급 기구는, 용매를 공급하는 파이프와, 파이프의 앞에 설치된 용매 공급구로서의 다공질 부재를, 갖는다. 특허문헌 1에는, 감압시에 있어서 챔버의 내부 공간에 있어서 기체의 흐름을 규제하는 부재가 존재하지 않기 때문에 기판상의 액막의 건조가 기판의 면 내에서 균일하게 되기 어렵다. 본 개시는, 기판상의 액막의 건조를 기판의 표면 내에서 균일하게 하는 유리한 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 개시의 일 측면은, 기판에 배치된 액막을 건조시키는 건조 장치에 관한 것으로, 상기 건조 장치는, 챔버와, 상기 챔버의 내부 공간에 있어서 상기 기판을 덮는 정류 커버와, 상기 정류 커버의 내측에 배치된 기체 방출체와, 상기 정류 커버에 의해 상기 기판이 덮인 상태로 상기 챔버의 상기 내부 공간을 감압하는 감압 기구와, 상기 기체 방출체에 유체를 공급하는 공급부를, 구비한다. 상기 측면에 따르면, 기판상의 액막의 건조를 기판의 표면 내에서 균일하게 하는 유리한 기술이 제공된다. [도 1] 일 실시 형태의 막 형성 시스템의 구성을 개략적으로 도시하는 도면. [도 2] 건조 장치의 구성예를 개략적으로 도시하는 단면도. [도 3] 기판을 예시하는 도면. [도 4] 기체 방출체로서의 다공질체의 구성예를 도시하는 도면. [도 5] 기판의 각 유효 영역에 도포된 유기 재료의 액막을 균일하게 건조시키는 데 유리한 공급부의 제1 구성예의 평면도. [도 6] 기판의 각 유효 영역에 도포된 유기 재료의 액막을 균일하게 건조시키는 데 유리한 공급부의 제2 구성예의 평면도. [도 7] 기판에 배치된 유기 재료의 액막을 건조 장치에 의해 건조시키는 건조 방법을 도시하는 도면. [도 8] 기판에 배치된 유기 재료의 액막을 건조 장치에 의해 건조시키는 건조 방법을 설명하기 위한 단면도. [도 9] 기판에 배치된 유기 재료의 액막을 건조 장치에 의해 건조시키는 건조 방법을 설명하기 위한 단면도. [도 10] 기판에 배치된 유기 재료의 액막을 건조 장치에 의해 건조시키는 건조 방법을 설명하기 위한 단면도. [도 11] 기판에 배치된 유기 재료의 액막을 건조 장치에 의해 건조시키는 건조 방법을 설명하기 위한 단면도. [도 12] 기판에 배치된 유기 재료의 액막을 건조 장치에 의해 건조시키는 건조 방법을 설명하기 위한 단면도. [도 13] 기체 방출체에 유체를 공급하는 공급부의 다른 구성예를 개략적으로 도시하는 단면도. 이하에, 본 발명의 바람직한 실시 형태를 첨부 도면에 근거하여 상세히 설명한다. 또한, 이하의 실시 형태는 특허청구의 범위에 관한 발명을 한정하는 것은 아니다. 실시 형태에는 복수의 특징이 기재되어 있지만, 이들의 복수의 특징 모두가 발명에 필수적인 것이라고는 할 수 없고, 또한, 복수의 특징은 임의로 조합되어도 좋다. 또한, 첨부 도면에서는, 동일 또는 유사한 교정에 동일한 참조 번호를 붙이고, 중복된 설명은 생략한다. 도 1에는, 유기 표시 패널의 제조에 적합한 일 실시 형태의 막 형성 시스템(100)의 구성이 개략적으로 도시되어 있다. 일 측면에 있어서, 막 형성 시스템(100)은, 기판(S)상에 유기 재료막을 형성하는 시스템으로서 이해될 수 있다. 다른 측면에 있어서, 막 형성 시스템(100)은, 기판(S)상의 유기 재료를 처리하는 장치로서 이해될 수 있다. 유기 재료막은, 예를 들면, 유기 EL 소자(OLED)의 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층 중 어느 것일 수 있다. 유기 EL 소자를 제조하는 프로세스는, 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층 등의 유기 재료막을 기판(S)상에 형성하는 막 형성 공정을 포함할 수 있다. 유기 재료막을 형성하는 막 형성 공정은, 기판(S)상에 액체 상태의 유기 재료를 도포함으로써 기판(S)상에 유기 재료의 액막을 배치하는 도포 공정과, 상기 액막을 건조시킴으로써 건조막을 형성하는 건조 공정과, 상기 건조막을 소성하는 소성 공정을 포함할 수 있다. 유기 재료는, 유기 재료막을 형성하기 위한 용질과 용매를 포함하는 용액일 수 있다. 막 형성 시스템(100)은, 복수의 처리 장치와, 복수의 처리 장치의 사이에서 기판(S)을 반송하는 반송기구(9)를 구비할 수 있다. 각 처리 장치는, 처리실을 포함할 수 있다. 막 형성 시스템(100)은, 복수의 처리 장치의 각각의 처리실에 접속된 반송실(10)을 구비하고, 반송기구(9)는 반송 실(10) 내에 배치될 수 있다. 반송실(10)은, 복수의 처리 장치의 각각의 처리실에 의해 둘러싸이도록 배치될 수 있다. 막 형성 시스템(100)은, 멀티챔버 형식의 처리 시스템일 수 있다. 일례에 있어서, 복수의 처리 장치는, 도포 장치(1) 및 건조 장치(4)를 포함할 수 있다. 도포 장치(1)는, 기판(S)상에 액체 상태의 유기 재료를 도포하는 도포 처리를 행한다. 건조 장치(4)는, 도포 장치(1)에 의해 기판(S)에 도포된 액체 상태의 유기 재료를 건조시키는 건조 처리를 행한다. 다른 관점에 있어서, 복수의 처리 장치는, 예를 들어, 도포 장치(1), 세정 장치(2), 로드록 장치(3), 건조 장치(4), 소성 장치(5), 냉각 장치(6a), 얼라인먼트 장치(6b), 언로드록 장치(7), 및 버퍼 장치(8)를 포함할 수 있다. 도포 장치(1), 건조 장치(4), 소성 장치(5)가 각각 갖는 처리실을 도포실, 건조실, 소성실이라고도 부를 수 있다. 도포실은, 기판(S)상에 액체 상태의 유기 재료를 도포함으로써 기판(S)상에 액막을 배치하는 도포 처리를 행하기 위한 처리실이다. 건조실은, 도포 장치(1)에 의해 기판(S)상에 배치된 액막을 건조시켜 건조막을 얻는 건조 처리를 행하기 위한 처리실이다. 소성실은, 건조 처리를 거친 기판(S)상의 건조막을 소성하는 소성 처리를 행하여 유기 재료막을 얻기 위한 처리실이다. 로드록 장치(3)는, 막 형성 시스템(100)의 외부로부터 막 형성 시스템(100)의 내부로 기판(S)을 반송하기 위한 인터페이스로서 사용될 수 있다. 냉각 장치(6a) 및 얼라인먼트 장치(6b)는, 이 예에서는 하나의 처리실 내에 배치되어 구성되지만, 냉각 장치(6a) 및 얼라인먼트 장치(6b)는, 서로 다른 처리실에 배치되어도 된다. 냉각 장치(6a)는, 세정 장치(2)에 의해 세정된 기판, 및 소성 장치(5)에 의해 건조막이 소성된 기판을, 냉각하도록 구성될 수 있다. 냉각 장치(6a)는, 예를 들어 기판의 온도 또는 온도 분포가 목표 온도의 ±0.2℃ 이내에 들어가도록 기판의 온도를 제어할 수 있다. 얼라인먼트 장치(6b)는, 예를 들면, 도포 장치(1)에 공급되는 기판을 얼라인먼트하도록 구성될 수 있다. 얼라인먼트는, 예를 들어, XYZ 좌표계에서의 X축 방향 및 Y축 방향의 위치, Z축 주위의 회전과 관련하여 이루어질 수 있다. 또한, 얼라인먼트 장치(6b)는, 막 형성 시스템(100)으로부터 언로드되는 기판의 얼라인먼트를 행하여도 된다. 언로드록 장치(7)는, 막 형성 시스템(100)에서의 처리가 종료된 기판(S)을 막 형성 시스템(100)으로부터 외부로 반송하기 위한 인터페이스로서 구성될 수 있다. 로드록 장치(3)와 언로드록 장치(7)는 공통화되어도 된다. 버퍼 장치(8)는, 막 형성 시스템(100)에 있어서 에러가 발생한 경우 등에 있어서, 막 형성 시스템(100)의 내부에 있어서 기판(S)을 퇴피시키기 위해서 사용될 수 있다. 반송실(10)과 도포 장치(1) 사이에는, 추가의 반송실(11)이 설치되어도 된다. 막 형성 시스템(100)은, 제어부(20)를 더 구비할 수 있다. 제어부(20)는, 예를 들면, FPGA(Field Programmable Gate Array의 약자) 등의 PLD(Programmable Logic Device의 약어), 또는 ASIC(Application Specific Integrated Circuit)의 약자), 또는 프로그램이 내장된 범용 또는 전용의 컴퓨터 또는 이들의 전부 또는 일부의 조합으로 구성될 수 있다. 제어부(20)는, 예를 들어, 외부 장치로부터 제공되는 제어 정보에 기초하여, 도포 장치(1), 세정 장치(2), 건조 장치(4), 소성 장치(5), 냉각 장치(6a), 얼라인먼트 장치(6b), 반송 기구(9)를 제어하도록 구성될 수 있다. 도 2에는 건조 장치(4)의 구성예가 개략적으로 도시되어 있다. 건조 장치(4)는, 도포 장치(1)에 의해 기판(S)상에 배치된 액막(F)을 건조시킬 수 있다. 건조 장치(4)는, 챔버(400)와, 챔버(400)의 내부 공간(IS)에 있어서 기판(S)을 덮는 정류 커버(402)와, 정류 커버(402)의 내측에 배치된 기체 방출체(403)를 구비할 수 있다. 건조 장치(4)는, 또한, 정류 커버(402)에 의해 기판(S)이 덮인 상태에서 챔버(400)의 내부 공간(IS) 내를 감압하는 감압 기구(412)와, 기체 방출체(403)에 유체를 공급하는 공급부(405)를 구비할 수 있다. 건조 장치(4)는, 또한 챔버(400)의 내부 공간(IS)에 있어서 기판(S)을 보유하는 기판 보유부(401)를 구비할 수 있다. 정류 커버(402)는, 하나 또는 복수의 개구(411)를 갖는다. 정류