Search

KR-20260061241-A - 필름, 편광판, 화상 표시 장치

KR20260061241AKR 20260061241 AKR20260061241 AKR 20260061241AKR-20260061241-A

Abstract

본 발명은, 인접하는 층과의 밀착성이 우수한, 규소 원자를 갖는 레벨링제를 포함하는 액정 조성물을 이용하여 형성된 필름의 제공을 과제로 한다. 본 발명의 필름은, 액정 화합물과, 규소 원자를 포함하는 레벨링제를 포함하는 액정 조성물을 이용하여 형성된 필름으로서, 상기 필름의 표면을 X선 광전자 분광법에 의하여 측정하여 얻어지는 Si2p의 내각 광전자 스펙트럼에 있어서의, 피크 톱의 결합 에너지가, 102.0eV 이상이거나, 또는, 상기 필름의 표면에, 산소 원자가 4개 결합된 규소 원자가 존재한다.

Inventors

  • 무라마츠 아야코
  • 구와하라 히로키
  • 사사타 가츠미
  • 가세자와 구니히로

Assignees

  • 후지필름 가부시키가이샤

Dates

Publication Date
20260506
Application Date
20241010
Priority Date
20231117

Claims (9)

  1. 액정 화합물과, 규소 원자를 포함하는 레벨링제를 포함하는 액정 조성물을 이용하여 형성된 필름으로서, 상기 필름의 표면을 X선 광전자 분광법에 의하여 측정하여 얻어지는 Si2p의 광전자 스펙트럼에 있어서의, 피크 톱의 결합 에너지가, 102.0eV 이상인, 필름.
  2. 액정 화합물과, 규소 원자를 포함하는 레벨링제를 포함하는 액정 조성물을 이용하여 형성된 필름으로서, 상기 필름의 표면에, 산소 원자가 4개 결합된 규소 원자가 존재하는, 필름.
  3. 청구항 2에 있어서, 상기 필름의 표면을 X선 광전자 분광법에 의하여 측정하여 얻어지는 Si2p의 광전자 스펙트럼에 있어서, 산소 원자가 4개 결합된 규소 원자에 귀속되는 피크 면적이, 상기 Si2p의 광전자 스펙트럼의 피크 면적에 대하여, 30% 이상인, 필름.
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 필름의 표면 탄성률이, 4.0GPa 이상인, 필름.
  5. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 필름의 표면 흡착력이, 12.0nN 이상인, 필름.
  6. 편광자와, 접착제층과, 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 필름을 포함하는, 편광판.
  7. 청구항 6에 기재된 편광판을 포함하는, 화상 표시 장치.
  8. 청구항 7에 있어서, 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치인, 화상 표시 장치.
  9. 청구항 7에 있어서, 액정 표시 장치인, 화상 표시 장치.

Description

필름, 편광판, 화상 표시 장치 본 발명은, 필름, 편광판, 및, 화상 표시 장치에 관한 것이다. 광학 보상 시트 및 위상차 필름 등의 광학 필름은, 화상 착색 해소 또는 시야각 확대를 위하여, 다양한 화상 표시 장치에서 이용되고 있다. 광학 필름으로서는 연신 복굴절 필름이 사용되고 있었지만, 최근, 연신 복굴절 필름 대신에, 액정 화합물로 이루어지는 광학 이방성층을 갖는 광학 필름을 사용하는 것이 제안되고 있다. 액정 화합물로 이루어지는 광학 이방성층은, 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물을 도포하여 도포막을 형성하고, 도포막에 대하여 배향 처리를 행하여 형성되는 경우가 많다. 액정 조성물에 있어서는, 도포막을 형성했을 때의 공기 계면 측의 표면 성상(性狀)의 개량을 위하여, 레벨링제를 첨가하는 경우가 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에는, 불소 원자를 포함하는 불소계 레벨링제를 첨가한 액정 조성물이 개시되어 있다. 도 1은, 본 발명의 필름을 포함하는 적층체의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다. 도 2는, 본 발명의 필름을 포함하는 편광판의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다. 이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다. 이하에 기재하는 구성 요건의 설명은, 본 발명의 대표적인 실시형태에 근거하여 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 그와 같은 실시형태에 제한되지 않는다. 본 명세서에 있어서, "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다. 또, 본 명세서에 있어서, 어느 성분이 2종 이상 존재하는 경우, 그 성분의 "함유량"은, 그들 2종 이상의 성분의 합계 함유량을 의미한다. 본 명세서에 있어서, 단계적으로 기재되어 있는 수치 범위에 있어서, 소정 수치 범위로 기재된 상한값 또는 하한값은, 다른 단계적인 기재의 수치 범위의 상한값 또는 하한값으로 치환해도 된다. 또, 본 명세서에 기재되어 있는 수치 범위에 있어서, 소정 수치 범위에서 기재된 상한값 또는 하한값은, 실시예에 나타나 있는 값으로 치환해도 된다. 본 명세서에 있어서, 2 이상의 바람직한 양태의 조합은, 보다 바람직한 양태이다. 본 명세서에 있어서, 표기되는 2가의 기(예를 들면, -CO-O-)의 결합 방향은, 특별히 설명하지 않는 한, 제한되지 않는다. 예를 들면, "X-Y-Z"라는 식으로 나타나는 화합물 중의, Y가 -CO-O-인 경우, 상기 화합물은 "X-O-CO-Z"여도 되고, "X-CO-O-Z"여도 된다. 본 명세서에 있어서, "(메트)아크릴"은, 아크릴 및 메타크릴의 양방을 포함하는 개념이고, "(메트)아크릴로일"은, 아크릴로일 및 메타크릴로일의 양방을 포함하는 개념이며, "(메트)아크릴레이트"는, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 양방을 포함하는 개념이고, "(메트)아크릴로나이트릴"은, 아크릴로나이트릴 및 메타아크릴로나이트릴의 양방을 포함하는 개념이다. 본 명세서에 있어서, 지상축(遲相軸)은, 특별한 설명이 없을 때는, 550nm에 있어서의 정의이다. 본 명세서에 있어서, Re(λ) 및 Rth(λ)는, 각각, 파장 λ에 있어서의 면내의 리타데이션 및 두께 방향의 리타데이션을 나타낸다. 또한, 파장 λ는, 특별히 기재가 없을 때는, 550nm로 한다. 또, 본 명세서에 있어서, Re(λ) 및 Rth(λ)는, AxoScan OPMF-1(옵토 사이언스사제)에 있어서, 파장 λ로 측정한 값이다. 구체적으로는, AxoScan OPMF-1에서, 평균 굴절률((nx+ny+nz)/3)과 막두께(d(μm))를 입력함으로써, 지상축 방향(°) Re(λ)=R0(λ) Rth(λ)=((nx+ny)/2-nz)×d 가 산출된다. 또한, R0(λ)은, AxoScan OPMF-1에서 산출되는 수치로서 표시되는 것이지만, Re(λ)를 의미하고 있다. 또, 본 명세서에 있어서, 각도의 관계(예를 들면 "직교", "평행" 등)에 대해서는, 본 발명이 속하는 기술분야에 있어서 허용되는 오차의 범위를 포함하는 것으로 한다. 구체적으로는, 엄밀한 각도 ±10° 미만의 범위 내인 것을 의미하며, 엄밀한 각도와의 오차는, ±5° 이하의 범위 내인 것이 바람직하고, ±3° 이하의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 본 명세서에 있어서, 고형분이란, 필름을 형성하는 성분을 의도하고, 용매는 포함되지 않는다. 필름을 형성하는 성분이면, 그 성상(性狀)이 액체상이더라도, 고형분으로 간주한다. [필름] 이하, 본 발명의 필름에 대하여 상세하게 설명한다. 본 발명의 제1 양태의 필름은, 액정 화합물과, 규소 원자를 포함하는 레벨링제를 포함하는 액정 조성물을 이용하여 형성되는 필름으로서, 필름의 표면을 X선 광전자 분광법에 의하여 측정하여 얻어지는 Si2p의 광전자 스펙트럼에 있어서의, 피크 톱의 결합 에너지가, 102.0eV 이상이다. 본 발명의 제2 양태의 필름은, 액정 화합물과, 규소 원자를 포함하는 레벨링제를 포함하는 액정 조성물을 이용하여 형성되는 필름으로서, 표면에, 산소 원자가 4개 결합된 규소 원자가 존재한다. 본 명세서에 있어서, 간단히 "본 발명의 필름"이라고 하는 경우, 제1 양태의 필름 및 제2 양태의 필름 모두 포함하는 개념을 나타낸다. 상기 구성을 갖는 필름이 본 발명의 과제를 해결할 수 있는 이유는 반드시 명확하지 않지만, 본 발명자들은 이하와 같이 추측한다. 또한, 하기 추측에 의하여, 효과가 얻어지는 메커니즘이 제한되는 것은 아니다. 환언하면, 하기 이외의 메커니즘에 의하여 효과가 얻어지는 경우에서도, 본 발명의 범위에 포함된다. 본 발명의 제1 양태의 필름은, 표면에 있어서, Si2p의 광전자 스펙트럼의 피크 톱의 결합 에너지가 소정의 값 이상을 취한다. 이와 같은 경우, 필름에 포함되는 규소 원자가, Si-C 결합 등과 비교하여 결합 에너지가 높은 Si-O 결합을 갖고 있는 비율이 많다고 생각된다. Si-O 결합이 많을수록, 필름 표면의 강도가 상승하여 파단이 억제되고, 또, 표면 흡착력 및 극성 등이 향상되며, 결과적으로, 인접하는 층과의 밀착성이 우수하다고 추측된다. 본 발명의 제2 양태의 필름은, 표면에, 산소 원자가 4개 결합된 규소 원자가 존재한다. 산소 원자가 4개 결합된 규소 원자는, 즉, 이산화 규소(SiO2)의 상태로 존재한다고 생각된다. 이산화 규소가 포함됨으로써, 필름 표면의 강도가 상승하여 파단이 억제되고, 표면 흡착력 및 극성 등이 향상되며, 결과적으로, 인접하는 층과의 밀착성이 우수하다고 추측된다. 이하, 본 발명의 필름이 인접하는 층과의 밀착성이 보다 우수한 것을, 간단히 "본 발명의 효과가 보다 우수하다"라고도 한다. 이하, 본 발명의 필름의 형성에 이용되는 액정 조성물, 필름의 제조 방법, 및, 필름의 특성에 대하여, 이 순서로 설명한다. 〔액정 조성물〕 액정 조성물은, 액정 화합물과, 규소 원자를 포함하는 레벨링제(이하, "특정 레벨링제"라고도 한다.)를 포함한다. <액정 화합물> 액정 조성물이 포함하는 액정 화합물은 특별히 한정되지 않는다. 일반적으로, 액정 화합물은 그 형상으로부터, 봉상 타입과 원반상 타입으로 분류할 수 있다. 또한 각각 저분자와 고분자 타입이 있다. 고분자란 일반적으로 중합도가 100 이상인 것을 가리킨다(고분자 물리·상전이 다이내믹스, 도이 마사오 저, 2페이지, 이와나미 쇼텐, 1992). 본 발명에서는, 어느 액정 화합물도 이용할 수 있지만, 봉상 액정 화합물 또는 원반상 액정 화합물(디스코틱 액정 화합물)을 이용하는 것이 바람직하다. 2종 이상의 봉상 액정 화합물, 2종 이상의 원반상 액정 화합물, 또는, 봉상 액정 화합물과 원반상 액정 화합물의 혼합물을 이용해도 된다. 액정 조성물이 포함하는 액정 화합물은, 저분자 액정 화합물 및 고분자 액정 화합물 중 어느 것이어도 되고, 이들의 혼합물이어도 된다. 액정 화합물은, 배향성의 점에서, 중합성 액정 화합물인 것이 바람직하다. 중합성 액정 화합물은, 중합성기를 갖는 액정 화합물이며, 배향 후에 중합시킴으로써 그 배향 상태를 고정화할 수 있다. 또, 고분자 액정 화합물은, 배향 후에 액정 조성물로부터 용매를 제거하여 건조시킴으로써 그 배향 상태를 고정화할 수 있다. 중합성 액정 화합물은, 중합성 봉상 액정 화합물 및 중합성 원반상 액정 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합성 액정 화합물인 것이 바람직하다. 중합성 액정 화합물이 갖는 중합성기는 특별히 한정되지 않지만, 라디칼 중합 또는 양이온 중합 가능한 중합성기가 바람직하다. 중합성기로서는, 예를 들면, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 에폭시기, 및, 바이닐기 등을 들 수 있다. 봉상 액정 화합물로서는, 일본 공표특허공보 평11-513019호의 청구항 1 또는 일본 공개특허공보 2005-289980호의 단락 [0026]~[0098]에 기재된 것이 바람직하고, 디스코틱 액정 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2007-108732호의 단락 [0020]~[0067] 또는 일본 공개특허공보 2010-244038호의 단락 [0013]~[0108]에 기재된 것이 바람직하다. 액정 화합물로서는, 역파장 분산성의 액정 화합물(역분산성 화합물)을 이용해도 된다. 본 명세서에 있어서 "역파장 분산성"의 액정 화합물이란, 이것을 이용하여 제작된 필름의 특정 파장(가시광 범위)에 있어서의 면내의 리타데이션(Re)값을 측정했을 때에, 측정 파장이 커짐에 따라 Re값이 동등 또는 높아지는 것을 말한다. 역파장 분산성의 액정 화합물은, 역파장 분산성의 층을 형성할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2008-297210호에 기재된 일반식 (I)로 나타나는 화합물(특히, 단락 [0034]~[0039]에 기재된 화합물), 일본 공개특허공보 2010-084032호에 기재된 일반식 (1)로 나타나는 화합물(특히, 단락 [0067]~[0073]에 기재된 화합물), 일본 공개특허공보 2016-081035호에 기재된 일반식 (1)로 나타나는 화합물(특히, 단락 [0043]~[0055]에 기재된 화합물), 및, 일본 공개특허공보 2016-053709호에 기재된 일반식 (II)로 나타나는 화합물(특히, 단락 번호 [0036]~[0043]에 기재된 화합물)을 들 수 있다. 또한, 일본