KR-20260061762-A - THE SUBSTRATE PROCESSING APPARTUS

KR20260061762AKR 20260061762 AKR20260061762 AKR 20260061762AKR-20260061762-A

Abstract

본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는, 노즐을 세정하는 세정 유닛을 포함한다. 세정 유닛은, 내부 공간을 가지는 바디와; 내부 공간을 제1 공간과 제1 버퍼 공간으로 구획하는 제1 내부판과; 제1 버퍼 공간으로 노즐을 세정하는 세정액을 공급하는 세정액 공급 배관과; 제1 내부판을 회전시키는 제1 구동기와; 내부 공간을 제2 공간과 제2 버퍼 공간으로 구획하는 제2 내부판과; 제2 버퍼 공간으로 노즐을 건조하는 가스를 공급하는 제2 가스 공급 배관과; 그리고 제2 내부판을 회전시키는 제2 구동기를 포함한다.

Inventors

심정보
손원식
정인기
유정협

Assignees

세메스 주식회사

Dates

Publication Date: 20260506
Application Date: 20241028

Claims (20)

기판을 처리하는 장치에 있어서, 처리액으로 기판을 액 처리하는 처리 공간을 가지는 컵 유닛과; 상기 처리 공간 내에서 기판을 지지하는 지지 유닛과; 상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 노즐을 포함하는 노즐 유닛과; 그리고 상기 컵 유닛의 일측에 위치되며, 상기 노즐을 세정하는 세정 유닛을 포함하되, 상기 세정 유닛은, 내부 공간을 가지는 바디와; 상기 내부 공간을 상기 노즐이 위치되는 제1 공간과 상기 제1 공간의 외측의 제1 버퍼 공간으로 구획하는 제1 내부판과; 액 밸브가 설치되고, 상기 제1 버퍼 공간으로 상기 제1 공간에 위치된 상기 노즐을 세정하는 세정액을 공급하는 세정액 공급 배관과; 상기 제1 내부판을 그 중심축을 기준으로 회전시키는 제1 구동기와; 상기 내부 공간을 상기 제1 공간과 상이한 높이의 제2 공간과 상기 제2 공간의 외측의 제2 버퍼 공간으로 구획하는 제2 내부판과; 제2 가스 밸브가 설치되고, 상기 제2 버퍼 공간으로 상기 제2 공간에 위치된 상기 노즐을 건조하는 가스를 공급하는 제2 가스 공급 배관과; 그리고 상기 제2 내부판을 그 중심축을 기준으로 회전시키는 제2 구동기를 포함하는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 제1 내부판에는 상기 제1 버퍼 공간과 상기 제1 공간 간에 유체가 흐르도록 하는 복수의 통공이 형성되는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 노즐 유닛은, 지지 프레임과; 상기 지지 프레임에 일 방향으로 나란히 지지되고, 단부에 각각 상기 노즐이 설치된 복수의 아암과; 그리고 상기 노즐이 대기 위치와 공정 위치 간에 이동되도록 상기 지지 프레임을 구동하는 노즐 구동기를 더 포함하고, 상기 복수의 아암에 설치된 상기 노즐은 상기 노즐 구동기에 의해 상기 대기 위치에서 상기 내부 공간에 삽입되고, 상기 기판 처리 장치는 상기 제1 구동기, 상기 액 밸브, 그리고 상기 노즐 구동기를 제어하는 제어기를 더 포함하되, 상기 제어기는, 상기 대기 위치에 위치한 상기 노즐이 상기 제1 공간에 삽입된 후, 상기 제1 내부판을 회전시키면서 상기 액 밸브를 개방하여 상기 제1 버퍼 공간을 통해 공급된 세정액으로 상기 노즐을 세정하는 제1 세정 단계가 수행되도록 상기 제1 구동기, 상기 액 밸브, 그리고 상기 노즐 구동기를 제어하는 기판 처리 장치.
제3항에 있어서, 상기 제1 세정 단계에서, 상기 제1 내부판은 제1 방향으로 회전되고, 상기 제어기는, 상기 제1 세정 단계 이후에, 상기 제1 내부판을 상기 제1 방향과 반대 방향인 제2 방향으로 회전시키면서 상기 제1 버퍼 공간을 통해 공급된 상기 세정액으로 상기 노즐을 세정하는 제2 세정 단계가 수행되도록 상기 제1 구동기를 제어하는 기판 처리 장치.
제4항에 있어서, 상기 노즐 유닛은, 지지 프레임과; 상기 지지 프레임에 일 방향으로 나란히 지지되고, 단부에 각각 상기 노즐이 설치된 복수의 아암과; 그리고 상기 노즐이 상기 제1 공간과 상기 제2 공간 간에 이동되도록 상기 지지 프레임을 구동하는 노즐 구동기를 더 포함하되, 상기 복수의 아암에 설치된 상기 노즐들이 동시에 상기 제1 공간으로부터 상기 제2 공간으로 삽입되고, 상기 제어기는 상기 제2 구동기, 상기 제2 가스 밸브, 그리고 상기 노즐 구동기를 더 제어하되, 상기 제어기는, 상기 제1 공간에 위치한 상기 노즐이 상기 제2 공간에 삽입된 후, 상기 제2 내부판을 회전시키면서 상기 액 밸브를 폐쇄하고 상기 제2 가스 밸브를 개방하여 상기 제2 버퍼 공간을 통해 공급된 가스로 상기 노즐을 건조하는 제1 건조 단계가 수행되도록 상기 제2 구동기, 상기 제2 가스 밸브, 그리고 상기 노즐 구동기를 제어하는 기판 처리 장치.
제5항에 있어서, 상기 제1 건조 단계에서 상기 제2 내부판은 제1 방향으로 회전되고, 상기 제어기는, 상기 제1 건조 단계 이후에, 상기 제2 내부판을 상기 제1 방향과 반대 방향인 제2 방향으로 회전시키면서 상기 제2 버퍼 공간을 통해 공급된 상기 가스로 상기 노즐을 건조하는 제2 건조 단계가 수행되되, 상기 제1 건조 단계 및 상기 제2 건조 단계는 복수 회 반복하여 수행되도록 상기 제2 구동기를 제어하는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 세정 유닛은, 제1 가스 밸브가 설치되고, 상기 제1 버퍼 공간으로 상기 제1 공간에 위치된 상기 노즐을 건조하는 가스를 공급하는 제1 가스 공급 배관을 더 포함하고, 상기 제2 가스 공급 배관에는 상기 내부 공간의 기체를 외부로 배기하기 위한 제2 감압 부재가 더 설치되는 기판 처리 장치.
제7항에 있어서, 상기 노즐 유닛은, 지지 프레임과; 상기 지지 프레임에 일 방향으로 나란히 지지되고, 단부에 각각 상기 노즐이 설치된 복수의 아암과; 그리고 상기 노즐이 대기 위치와 공정 위치 간에 이동되도록 상기 지지 프레임을 구동하는 노즐 구동기를 더 포함하고, 상기 기판 처리 장치는 상기 제1 구동기, 상기 제2 구동기, 상기 액 밸브, 상기 제1 가스 밸브, 상기 제1 감압 부재, 그리고 상기 노즐 구동기를 제어하는 제어기를 더 포함하되, 상기 제어기는, 상기 대기 위치에 위치한 상기 노즐이 상기 제1 공간에 삽입된 후, 상기 제1 내부판을 회전시키면서 상기 액 밸브를 개방하여 상기 제1 버퍼 공간을 통해 공급된 세정액으로 상기 노즐을 세정하는 제1 세정 단계; 상기 제1 세정 단계가 수행된 후 상기 제1 내부판을 회전시키면서 상기 제1 가스 밸브를 개방하여 상기 제1 버퍼 공간을 통해 공급된 가스로 상기 노즐을 건조하는 제1 건조 단계; 그리고 상기 제1 건조 단계가 수행되는 동안에 상기 제2 감압 부재를 통해 상기 내부 공간의 기체를 외부로 배기하는 배기 단계를 포함하여 수행되도록 상기 제1 구동기, 상기 액 밸브, 상기 제1 가스 밸브, 상기 감압 부재, 그리고 상기 노즐 구동기를 제어하는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 세정 유닛은, 상기 내부 공간을 상기 노즐이 위치되는 제3 공간과 상기 제3 공간의 외측의 제3 버퍼 공간으로 구획하는 제3 내부판과; 제2 액 밸브가 설치되고, 상기 제3 버퍼 공간으로 상기 제3 공간에 위치된 상기 노즐을 세정하는 세정액을 공급하는 제2 세정액 공급 배관과; 상기 제3 내부판을 그 중심축을 기준으로 회전시키는 제3 구동기를 더 포함하는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 세정 유닛은, 제2 가스 밸브가 설치되고, 상기 제2 버퍼 공간으로 상기 제2 공간에 위치된 상기 노즐을 건조하는 가스를 공급하는 제2 가스 공급 배관을 더 포함하고, 상기 제1 가스 공급 배관에는 상기 내부 공간의 기체를 외부로 배기하기 위한 제1 감압 부재가 더 설치되는 기판 처리 장치.
제10항에 있어서, 상기 노즐 유닛은, 지지 프레임과; 상기 지지 프레임에 일 방향으로 나란히 지지되고, 단부에 각각 상기 노즐이 설치된 복수의 아암과; 그리고 상기 노즐이 대기 위치와 공정 위치 간에 이동되도록 상기 지지 프레임을 구동하는 노즐 구동기를 더 포함하고, 상기 기판 처리 장치는 상기 제1 구동기, 상기 제2 구동기, 상기 액 밸브, 상기 제2 가스 밸브, 상기 제1 감압 부재, 그리고 상기 노즐 구동기를 제어하는 제어기를 더 포함하되, 상기 제어기는, 상기 제1 공간에 위치한 노즐이 상기 노즐이 상기 제2 공간에 삽입된 후, 상기 제2 내부판을 회전시키면서 상기 액 밸브를 폐쇄하고 상기 제2 가스 밸브를 개방하여 상기 제2 버퍼 공간을 통해 공급된 가스로 상기 노즐을 건조하는 제2 건조 단계; 그리고 상기 제2 건조 단계가 수행되는 동안에 상기 제1 감압 부재를 통해 상기 내부 공간의 기체를 외부로 배기하는 제1 배기 단계를 포함하여 수행되도록 상기 제2 구동기, 상기 액 밸브, 상기 제2 가스 밸브, 상기 제1 감압 부재, 그리고 상기 노즐 구동기를 제어하는 기판 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 기판 처리 장치는, 상기 제1 구동기를 제어하는 제어기를 더 포함하되, 상기 제어기는, 기판 처리에 사용되는 처리액이 노즐 팁에 잔류함에 따라 발생하는 오염물이 다량 부착될수록 상기 제1 내부판의 회전 횟수를 증가시키도록 상기 제1 구동기를 제어하는 기판 처리 장치.
제12항에 있어서, 상기 오염물은 염 화합물인 염 화합물인 기판 처리 장치.
기판을 처리하는 장치에 있어서, 처리액으로 기판을 액 처리하는 처리 공간을 가지는 컵 유닛과; 상기 처리 공간 내에서 기판을 지지하는 지지 유닛과; 상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 노즐을 포함하는 노즐 유닛과; 그리고 상기 컵 유닛의 일측에 위치되며, 상기 노즐을 세정하는 세정 유닛을 포함하되, 상기 세정 유닛은, 내부 공간을 가지는 바디와; 상기 내부 공간을 상기 노즐이 위치되는 제1 공간과 상기 제1 공간의 외측의 제1 버퍼 공간으로 구획하는 제1 내부판과; 액 밸브가 설치되고, 상기 제1 버퍼 공간으로 상기 제1 공간에 위치된 상기 노즐을 세정하는 세정액을 공급하는 세정액 공급 배관과; 제1 가스 밸브가 설치되고, 상기 제1 버퍼 공간으로 상기 제1 공간에 위치된 상기 노즐을 건조하는 가스를 공급하는 제1 가스 공급 배관과; 그리고 상기 제1 내부판을 그 중심축을 기준으로 회전시키는 제1 구동기를 포함하고, 상기 제1 내부판에는 상기 제1 버퍼 공간과 상기 제1 공간 간에 유체가 흐르도록 하는 복수의 통공이 형성되는 기판 처리 장치.
제14항에 있어서, 상기 노즐 유닛은, 지지 프레임과; 상기 지지 프레임에 일 방향으로 나란히 지지되고, 단부에 각각 상기 노즐이 설치된 복수의 아암과; 그리고 상기 노즐이 대기 위치와 공정 위치 간에 이동되도록 상기 지지 프레임을 구동하는 노즐 구동기를 더 포함하되, 상기 복수의 아암에 설치된 상기 노즐은 상기 노즐 구동기에 의해 상기 대기 위치에서 상기 내부 공간에 삽입되고, 상기 기판 처리 장치는 상기 제1 구동기, 상기 액 밸브, 상기 제1 가스 밸브, 그리고 상기 노즐 구동기를 제어하는 제어기를 더 포함하되, 상기 제어기는, 상기 대기 위치에 위치한 상기 노즐이 상기 제1 공간에 삽입된 후, 상기 제1 내부판을 회전시키면서 상기 액 밸브를 개방하여 상기 제1 버퍼 공간을 통해 공급된 세정액으로 상기 노즐을 세정하는 제1 세정 단계가 수행되도록 상기 제1 구동기, 상기 액 밸브, 그리고 상기 노즐 구동기를 제어하는 기판 처리 장치.
제15항에 있어서, 상기 제1 세정 단계에서 상기 제1 내부판은 제1 방향으로 회전되고, 상기 제어기는, 상기 제1 세정 단계 이후에, 상기 제1 내부판을 상기 제1 방향과 반대 방향인 제2 방향으로 회전시키면서 상기 제1 버퍼 공간을 통해 공급된 상기 세정액으로 상기 노즐을 세정하는 제2 세정 단계가 수행되도록 상기 제1 구동기를 제어하는 기판 처리 장치.
제16항에 있어서, 상기 세정액 공급 배관에는 상기 내부 공간의 기체를 외부로 배기하기 위한 제1 감압 부재가 더 설치되고, 상기 기판 처리 장치는 상기 제1 구동기, 상기 액 밸브, 상기 제1 가스 밸브, 상기 제1 감압 부재, 그리고 상기 노즐 구동기를 제어하는 제어기를 더 포함하되, 상기 제어기는, 상기 제1 세정 단계가 수행된 후, 상기 제1 내부판을 회전시키면서 상기 액 밸브를 폐쇄하고 상기 제1 가스 밸브를 개방하여 상기 제1 버퍼 공간을 통해 공급된 가스로 상기 노즐을 건조하는 제1 건조 단계가 수행되는 동안에 상기 제1 감압 부재를 통해 상기 내부 공간의 기체를 외부로 배기하는 배기 단계를 포함하여 수행하도록 상기 제1 구동기, 상기 액 밸브, 상기 제1 가스 밸브, 그리고 상기 제1 감압 부재를 제어하는 기판 처리 장치.
제14항에 있어서, 상기 기판 처리 장치는 상기 제1 구동기를 제어하는 제어기를 더 포함하되, 상기 제어기는, 기판 처리에 사용되는 처리액이 노즐 팁에 잔류함에 따라 발생하는 오염물이 다량 부착될수록 제1 내부판의 회전 횟수를 증가시키도록 상기 제1 구동기를 제어하는 기판 처리 장치.
제18항에 있어서, 상기 오염물은 염 화합물인 기판 처리 장치.
기판을 처리하는 장치에 있어서, 처리액으로 기판을 액 처리하는 처리 공간을 가지는 컵 유닛과; 상기 처리 공간 내에서 기판을 지지하는 지지 유닛과; 상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 노즐을 포함하는 노즐 유닛과; 그리고 상기 컵 유닛의 일측에 위치되며, 상기 노즐을 세정하는 세정 유닛을 포함하되, 상기 세정 유닛은, 지지 프레임과; 상기 지지 프레임에 일 방향으로 나란히 지지되고, 단부에 각각 상기 노즐이 설치된 복수의 아암과; 상기 노즐이 대기 위치와 공정 위치 간에 이동되도록 상기 지지 프레임을 구동하는 노즐 구동기와; 내부 공간을 가지는 바디와; 상기 내부 공간을 상기 노즐이 위치되는 제1 공간과 상기 제1 공간의 외측의 제1 버퍼 공간으로 구획하는 제1 내부판과; 액 밸브가 설치되고, 상기 제1 버퍼 공간으로 상기 제1 공간에 위치된 상기 노즐을 세정하는 세정액을 공급하는 세정액 공급 배관과; 상기 제1 내부판을 그 중심축을 기준으로 회전시키는 제1 구동기와; 상기 내부 공간을 상기 제1 공간과 상이한 높이의 제2 공간과 상기 제2 공간의 외측의 제2 버퍼 공간으로 구획하는 제2 내부판과; 제2 가스 밸브가 설치되고, 상기 제2 버퍼 공간으로 상기 제2 공간에 위치된 상기 노즐을 건조하는 가스를 공급하는 제2 가스 공급 배관과; 그리고 상기 제2 내부판을 그 중심축을 기준으로 회전시키는 제2 구동기를 포함하되, 상기 제1 내부판에는 상기 제1 버퍼 공간과 상기 제1 공간 간에 유체가 흐르도록 하는 복수의 통공이 형성되고, 상기 제2 내부판에는 상기 제2 버퍼 공간과 상기 제2 공간 간에 유체가 흐르도록 하는 복수의 통공이 형성되고, 상기 복수의 아암에 설치된 상기 노즐은 상기 노즐 구동기에 의해 상기 대기 위치에서 상기 내부 공간에 삽입되고, 상기 기판 처리 장치는 상기 제1 구동기, 상기 액 밸브, 상기 제2 가스 밸브, 그리고 상기 노즐 구동기를 제어하는 제어기를 더 포함하되, 상기 대기 위치에 위치한 상기 노즐이 상기 제1 공간에 삽입된 후, 상기 제1 내부판을 제1 방향으로 회전시키면서 상기 액 밸브를 개방하여 상기 제1 버퍼 공간을 통해 공급된 세정액으로 상기 노즐을 세정하는 제1 세정 단계; 상기 제1 세정 단계 이후에, 상기 제1 내부판을 상기 제1 방향과 반대 방향인 제2 방향으로 회전시키면서 상기 제1 버퍼 공간을 통해 공급된 상기 세정액으로 상기 노즐을 세정하는 제2 세정 단계; 상기 제1 공간에 위치한 상기 노즐이 상기 제2 공간에 삽입된 후, 상기 제2 내부판을 회전시키면서 상기 액 밸브를 폐쇄하고 상기 제2 가스 밸브를 개방하여 상기 제2 버퍼 공간을 통해 공급된 가스로 상기 노즐을 건조하는 제2 건조 단계를 포함하여 수행되도록 상기 제1 구동기, 상기 제2 구동기, 상기 액 밸브, 상기 제2 가스 밸브, 그리고 상기 노즐 구동기를 제어하는 기판 처리 장치.

Description

기판 처리 장치{THE SUBSTRATE PROCESSING APPARTUS} 본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 기판으로 처리액을 토출하는 노즐을 세정하는 세정 유닛을 가지는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 반도체 소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판에 사진, 식각, 애싱, 이온주입, 박막 증착, 세정 등의 다양한 공정들이 수행된다. 이 중 세정 공정은 기판 상에 케미칼, 유기용제, 또는 물과 같은 처리액을 공급하여 기판 상의 파티클을 제거하는 공정이다. 세정 공정을 수행하는 일반적인 장치는 컵에 제공된 처리 공간에 기판을 지지하는 스핀 척과 기판 상으로 처리액을 공급하는 노즐을 가진다. 세정 공정에서 사용되는 노즐은, 여러 성분의 처리액이 사용되므로 각각의 처리액에 따라 별도의 노즐이 사용된다. 케미칼, 유기용제, 물을 처리액으로 사용하는 경우, 노즐은 3개로 제공될 수 있다. 기판 세정을 수행하지 않을 때에 노즐은 컵의 일측에 위치된 세정 유닛에서 대기한다. 기판 상으로 처리액을 공급할 때, 처리액이 노즐로 되튀어 노즐을 오염시킨다. 노즐의 단부에서 고형화 된 처리액은 후속 기판을 처리할 때 파티클로 작용하여 후속 기판을 오염시킨다. 따라서 노즐이 세정 유닛에서 대기하는 동안, 노즐의 외측면이 세정된다. 도 1은 일반적인 세정 유닛의 구조를 개략적으로 보여주는 평면도이다. 도 1을 참조하면, 기판 처리를 마친 복수 개의 노즐(490)은 함께 세정 유닛(501)에 삽입된다. 노즐이 세정 유닛 내에 삽입되면, 노즐의 단부 또는 외측면을 향해 세정 노즐(502)로부터 세정액이 공급된다. 그러나 복수 개의 노즐(490)이 삽입되면서 각 노즐(490) 사이의 공간에 세정액에 의해 세정되지 못하는 영역(A)이 생기게 된다. 또한, 노즐(490)을 일렬로 배치하지 않는 경우에는 중앙 영역에 각 노즐(490) 사이에 형성되는 세정되지 못하는 영역(A)이 더 증가하게 된다. 그 결과, 세정 효율이 크게 저하된다. 또한, 다수의 세정 노즐이 설치됨에 따라 세정 유닛 내의 구조가 복잡해지고, 세정 유닛에 제공된 부품의 수가 많아지는 문제가 있다. 본 명세서의 비제한적인 실시예의 다양한 특징 및 이점은 첨부 도면과 함께 상세한 설명을 검토하면 더욱 명백해질 수 있다. 첨부된 도면은 단지 예시의 목적으로 제공되며 청구범위를 제한하는 것으로 해석되어서는 안된다. 첨부 도면은 명시적으로 언급되지 않는 한 축척에 맞게 그려진 것으로 간주되지 않는다. 명확성을 위해 도면의 다양한 치수는 과장되었을 수 있다. 도 1은 일반적인 세정 유닛의 구조를 개략적으로 보여주는 평면도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다. 도 3은 도 2의 액 처리 챔버의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 4는 도 3의 노즐 유닛의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 5는 도 3의 세정 유닛의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 세정 방법을 개략적으로 보여주는 플로우차트이다. 도 7은 도 6의 제1 이동 단계에서의 노즐의 위치를 개략적으로 나타낸 단면도이다. 도 8은 도 6의 노즐 세정 단계에서의 세정 유닛을 개략적을 나타낸 단면도이다. 도 9는 도 6의 제2 이동 단계에서의 노즐의 위치를 개략적으로 나타낸 단면도이다. 도 10은 도 6의 노즐 건조 단계에서의 세정 유닛을 개략적으로 나타낸 단면도이다. 도 11은 도 5의 세정 유닛의 또다른 예를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 도 12는 도 11에 따른 노즐 세정 방법을 개략적으로 보여주는 플로우차트이다. 도 13 내지 도 16은 도 5의 세정 유닛의 또다른 예를 개략적으로 보여주는 도면이다. 아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다. 어떤 구성요소를 '포함한다'는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다. 용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. 또한, 본 명세서에서 "연결된다"라는 의미는 A 부재와 B 부재가 직접 연결되는 경우뿐만 아니라, A 부재와 B 부재의 사이에 C 부재가 개재되어 A 부재와 B 부재가 간접 연결되는 경우도 의미한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다. 본 발명에서 기판(W)은 반도체 제조에 사용되는 웨이퍼를 예로 들어 설명한다. 그러나 이와 달리, 기판(W)은 마스크 또는 평판 표시 패널일 수 있다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다. 도 2를 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 인덱스 모듈(10), 처리 모듈(20), 그리고 제어기(2)를 가진다. 인덱스 모듈(10)과 처리 모듈(20)은 일방향을 따라 배치된다. 이하, 인덱스 모듈(10)과 처리 모듈(20)이 배치된 방향을 제1 방향(92)이라 하고, 상부에서 바라볼 때 제1 방향(92)과 수직한 방향을 제2 방향(94)이라 하고, 제1 방향(92) 및 제2 방향(94)에 모두 수직한 방향을 제3방향(96)이라 한다. 인덱스 모듈(10)은 기판(W)이 수납된 용기(80)로부터 기판(W)을 처리 모듈(20)로 반송하고, 처리 모듈(20)에서 처리가 완료된 기판(W)을 용기(80)로 수납한다. 인덱스 모듈(10)은 길이 방향이 제2 방향(94)으로 제공된다. 인덱스 모듈(10)은 로드포트(12, Loadport)와 인덱스 프레임(14)을 가진다. 인덱스 프레임(14)을 기준으로 로드포트(12)는 처리 모듈(20)의 반대 측에 위치된다. 기판(W)들이 수납된 용기(80)는 로드포트(12) 위에 놓인다. 로드포트(12)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 로드포트(12)는 제2 방향(94)을 따라 배치된다. 인덱스 프레임(14)에는 인덱스 로봇(120)이 제공된다. 인덱스 프레임(14) 내에는 그 길이 방향이 제2 방향(94)으로 제공된 가이드 레일(140)이 제공되고, 인덱스 로봇(120)은 가이드 레일(140)을 따라 이동 가능하게 제공된다. 인덱스 로봇(120)은 기판(W)이 놓이는 핸드(122)를 가진다. 핸드(122)는 전진 및 후진 이동, 제3방향(96)을 축으로 한 회전, 그리고 제3방향(96)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 핸드(122)는 복수 개가 상하 방향으로 이격되게 제공되고, 핸드(122)들은 서로 독립적으로 전진 및 후진 이동할 수 있다. 처리 모듈(20)은 버퍼 유닛(200), 반송 챔버(300), 그리고 액 처리 챔버(400)를 포함한다. 버퍼 유닛(200)은 인덱스 모듈(10)과 반송 챔버(300) 간에 이동되는 기판(W)이 일시적으로 머무르는 공간을 제공한다. 액 처리 챔버(400)는 기판(W) 상에 액을 공급하여 기판(W)을 액 처리하는 액 처리 공정을 수행한다. 반송 챔버(300)는 버퍼 유닛(200)과 액 처리 챔버(400) 간에 기판(W)을 반송한다. 반송 챔버(300)는 그 길이 방향이 제1 방향(92)으로 제공된다. 버퍼 유닛(200)은 인덱스 모듈(10)과 반송 챔버(300) 사이에 배치된다. 액 처리 챔버(400)는 복수 개 제공될 수 있다. 액 처리 챔버(400)는 반송 챔버(300)의 측부에 배치될 수 있다. 액 처리 챔버(400)와 반송 챔버(300)는 제2 방향(94)을 따라 배치될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 반송 챔버(300)의 일단에 위치될 수 있다. 일 예에 의하면, 액 처리 챔버(400)들은 반송 챔버(300)의 양측에 각각 배치된다. 반송 챔버(300)의 양측 각각에서 액 처리 챔버(400)들은 제1 방향(92) 및 제3방향(96)을 따라 A X B(A, B는 각각 1 또는 1보다 큰 자연수) 배열로 제공될 수 있다. 반송 챔버(300)는 반송 로봇(320)을 가진다. 반송 챔버(300) 내에는 그 길이 방향이 제1 방향(92)으로 제공된 가이드 레일(340)이 제공되고, 반송 로봇(320)은 가이드 레일(340)을 따라 이동 가능하게 제공된다. 반송 로봇(320)은 기판(W)이 놓이는 핸드(322)를 가진다. 핸드(322)는 전진 및 후진 이동, 제3방향(96)을 축으로 한 회전, 그리고 제3방향(96)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 핸드(322)는 복수 개가 상하 방향으로 이격되게 제공되고, 핸드(322)들은 서로 독립적으로 전진 및 후진 이동할 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 기판(W)이 놓이는 버퍼(220)를 복수 개 구비한다. 버퍼(220)들은 제3방향(96)을 따라 서로 간에 이격되도록 배치될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 전면(front face, 201